| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-43页 |
| 1.1 晶体硅光伏技术的发展与现状 | 第10-22页 |
| 1.1.1 晶体硅光伏技术 | 第10-13页 |
| 1.1.2 晶体硅太阳电池制备技术 | 第13-15页 |
| 1.1.3 高效晶体硅太阳电池 | 第15-22页 |
| 1.1.3.1 晶体硅太阳电池研究历史和现状 | 第15-16页 |
| 1.1.3.2 高效晶体硅太阳电池现状 | 第16-22页 |
| 1.2 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池的发展历史与现状 | 第22-31页 |
| 1.2.1 非晶硅/晶体硅异质结电池概述 | 第22-24页 |
| 1.2.2 非晶硅/晶体硅异质结电池的制备 | 第24-26页 |
| 1.2.3 非晶硅/晶体硅异质结电池研究现状 | 第26-31页 |
| 1.2.3.1 非晶硅/晶体硅异质结电池研究现状 | 第26-29页 |
| 1.2.3.2 非晶硅/晶体硅异质结电池国内研究现状 | 第29-31页 |
| 1.3 非晶硅薄膜特性和生长机制 | 第31-37页 |
| 1.3.1 非晶硅薄膜特性 | 第31-33页 |
| 1.3.2 PECVD 设备及等离子体反应 | 第33-35页 |
| 1.3.3 非晶硅薄膜表面生长机制 | 第35-37页 |
| 1.4 非晶硅/晶体硅异质结电池的钝化层研究现状 | 第37-42页 |
| 1.4.1 非晶硅/晶体硅异质结电池钝化层的一些重要概念 | 第37-40页 |
| 1.4.1.1 本征薄层 | 第37-38页 |
| 1.4.1.2 外延 | 第38页 |
| 1.4.1.3 有效界面 | 第38-40页 |
| 1.4.2 非晶硅/晶体硅异质结电池钝化层的研究现状 | 第40-42页 |
| 1.5 本文的研究目的和主要内容 | 第42-43页 |
| 第2章 硅片绒面圆化对非晶硅薄膜钝化影响研究 | 第43-56页 |
| 2.1 引言 | 第43-44页 |
| 2.2 实验方法 | 第44-49页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第44-45页 |
| 2.2.2 实验设备 | 第45-47页 |
| 2.2.3 实验过程和表征 | 第47-49页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第49-55页 |
| 2.3.1 金字塔绒面结构圆化形貌及圆化程度的定量描述 | 第49-53页 |
| 2.3.2 金字塔绒面结构圆化对光反射率的影响 | 第53页 |
| 2.3.3 金字塔绒面结构圆化对氢化非晶硅薄膜钝化效果的影响 | 第53-55页 |
| 2.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第3章 非晶硅薄膜钝化研究 | 第56-74页 |
| 3.1 引言 | 第56-57页 |
| 3.2 实验方法 | 第57-61页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第57页 |
| 3.2.2 实验设备 | 第57-59页 |
| 3.2.3 实验过程和表征 | 第59-61页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第61-73页 |
| 3.3.1 低速率沉积非晶硅薄膜对硅片钝化效果的影响 | 第61-67页 |
| 3.3.1.1 不同非晶硅薄膜沉积速率对钝化效果的影响 | 第61-64页 |
| 3.3.1.2 沉积气压对钝化效果和非晶硅薄膜氢含量的影响 | 第64-67页 |
| 3.3.2 沉积温度对硅片钝化效果的影响 | 第67-73页 |
| 3.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 第4章 非晶亚氧化硅薄膜钝化研究 | 第74-90页 |
| 4.1 引言 | 第74-75页 |
| 4.2 实验方法 | 第75-77页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第75页 |
| 4.2.2 实验设备 | 第75-76页 |
| 4.2.3 实验过程和表征 | 第76-77页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第77-88页 |
| 4.3.1 非晶硅薄膜制程工艺窗口 | 第77-80页 |
| 4.3.2 沉积参数对非晶亚氧化硅钝化层的影响 | 第80-82页 |
| 4.3.3 非晶亚氧化硅钝化层的工艺窗口 | 第82-88页 |
| 4.4 本章小结 | 第88-90页 |
| 第5章 非晶硅/晶体硅异质结电池发射极掺杂层研究 | 第90-100页 |
| 5.1 引言 | 第90-91页 |
| 5.2 实验方法 | 第91-93页 |
| 5.2.1 实验材料 | 第91页 |
| 5.2.2 实验设备 | 第91-92页 |
| 5.2.3 实验过程和样品表征 | 第92-93页 |
| 5.2.3.1 掺杂非晶硅样品制备和表征 | 第92页 |
| 5.2.3.2 钝化层配合掺杂层样品制备和表征 | 第92-93页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第93-98页 |
| 5.3.1 掺杂非晶硅薄膜制备和分析 | 第93-97页 |
| 5.3.2 掺杂层与钝化层配合 | 第97-98页 |
| 5.4 本章小结 | 第98-100页 |
| 第6章 总结 | 第100-103页 |
| 6.1 主要研究结果和结论 | 第100-102页 |
| 6.2 展望 | 第102-103页 |
| 致谢 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-114页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第114页 |
