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基于铜基底CVD法制备高质量石墨烯

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
1 绪论第10-26页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 石墨烯的结构与性质第11-16页
    1.3 石墨烯的制备方法第16-20页
    1.4 石墨烯的主要应用第20-25页
    1.5 本论文的研究目的及主要内容第25-26页
2 高质量石墨烯薄膜的大面积制备及其在场效应晶体管中应用第26-37页
    2.1 试剂与仪器第26-27页
    2.2 实验部分第27-33页
    2.3 结果与讨论第33-36页
    2.4 本章小结第36-37页
3 高质量大面积单晶石墨烯的制备及其在场效应晶体管中应用第37-50页
    3.1 试剂与仪器第37-38页
    3.2 实验部分第38-42页
    3.3 结果与讨论第42-48页
    3.4 本章小结第48-50页
4 总结与展望第50-53页
    4.1 总结第50-51页
    4.2 展望第51-53页
致谢第53-54页
参考文献第54-60页
附录1 攻读硕士学位期间发表论文目录第60页

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