| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 课题背景及研究目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 Ti_2AlN/TiAl复合材料的研究现状 | 第11-15页 |
| 1.2.1 Ti-Al系金属间化合物的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.2 M-A-X晶体结构及性质 | 第13-14页 |
| 1.2.3 Ti_2AlN/TiAl复合材料的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.3 第一性原理基本原理及在材料中的应用 | 第15-19页 |
| 1.3.1 第一性原理基本原理 | 第15-16页 |
| 1.3.2 复合材料界面的第一性原理的研究现状 | 第16-19页 |
| 1.4 TiAl复合材料界面第一性原理的研究现状 | 第19-21页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 理论计算方法 | 第23-32页 |
| 2.1 密度泛函理论(DFT) | 第23-29页 |
| 2.1.1 Hohenberg-Kohn定理 | 第23-25页 |
| 2.1.2 Kohn-Sham方程 | 第25-28页 |
| 2.1.3 局域密度和广义梯度的近似 | 第28-29页 |
| 2.2 赝势和平面波基组 | 第29-30页 |
| 2.3 材料与试验方法 | 第30-32页 |
| 2.3.1 试验材料 | 第30-31页 |
| 2.3.2 组织观察与物相分析 | 第31-32页 |
| 第3章 γ-TiAl块体和表面计算 | 第32-42页 |
| 3.1 γ-TiAl块体计算研究 | 第32-35页 |
| 3.1.1 γ-TiAl块体模型建立 | 第32-33页 |
| 3.1.2 γ-TiAl块体电子结构 | 第33-35页 |
| 3.1.3 γ-TiAl块体成键分析 | 第35页 |
| 3.2 γ-TiAl表面计算研究 | 第35-41页 |
| 3.2.1 γ-TiAl表面模型建立 | 第35-37页 |
| 3.2.2 γ-TiAl表面的能量计算 | 第37-40页 |
| 3.2.3 γ-TiAl块体和(110)表面电子结构比较 | 第40-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 Ti_2AlN块体和表面计算 | 第42-53页 |
| 4.1 Ti_2AlN块体计算 | 第42-46页 |
| 4.1.1 Ti_2AlN块体模型建立 | 第42-43页 |
| 4.1.2 Ti_2AlN块体电子结构 | 第43-45页 |
| 4.1.3 Ti_2AlN块体成键分析 | 第45-46页 |
| 4.2 Ti_2AlN表面计算 | 第46-50页 |
| 4.2.1 Ti_2AlN表面模型建立 | 第46-47页 |
| 4.2.2 Ti_2AlN表面成键分析 | 第47-48页 |
| 4.2.3 Ti_2AlN表面的能量计算 | 第48-50页 |
| 4.3 Ti_2AlN块体和表面电子结构比较 | 第50-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第5章 Ti_2AlN/TiAl界面的计算 | 第53-70页 |
| 5.1 TiAl(110)-Al终端/Ti_2AlN(112(?)0)界面 | 第53-57页 |
| 5.1.1 构建界面模型及参数设置 | 第53-56页 |
| 5.1.2 界面分离功 | 第56-57页 |
| 5.2 TiAl(111)/Ti_2AlN(112(?)0)界面 | 第57-59页 |
| 5.2.1 构建界面模型及参数设置 | 第57-58页 |
| 5.2.2 界面分离功 | 第58-59页 |
| 5.3 TiAl(001)-Al终端/Ti_2AlN(112(?)0)界面 | 第59-61页 |
| 5.3.1 构建界面模型及参数设置 | 第59-60页 |
| 5.3.2 界面分离功 | 第60-61页 |
| 5.4 TiAl(111)/Ti_2AlN(0001)-N终端界面 | 第61-66页 |
| 5.4.1 构建界面模型及参数设置 | 第61-62页 |
| 5.4.2 结构分析 | 第62-64页 |
| 5.4.3 界面成键和电子结构 | 第64-66页 |
| 5.5 Ti_2AlN/TiAl界面的实验观察 | 第66-68页 |
| 5.6 实验与模拟的比较分析 | 第68-69页 |
| 5.7 本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
