| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 选题依据与研究意义 | 第11页 |
| 1.2 碳氢的概述 | 第11-13页 |
| 1.2.1 碳氢的污染现状 | 第11-12页 |
| 1.2.2 碳氢的常规净化方法 | 第12-13页 |
| 1.3 半导体光催化的基本原理 | 第13-14页 |
| 1.4 可见光催化研究现状 | 第14-17页 |
| 1.5 半导体异质结构可见光催化剂 | 第17-21页 |
| 1.5.1 半导体异质结构光催化的基本原理 | 第17-18页 |
| 1.5.2 不同形式的异质结构半导体 | 第18-19页 |
| 1.5.3 半导体异质结构的制备方法 | 第19页 |
| 1.5.4 影响半导体异质结构光催化活性的因素 | 第19-21页 |
| 1.5.5 异质结构光催化剂失活与抑制失活的的途径 | 第21页 |
| 1.6 本课题研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 实验试剂与催化剂分析 | 第23-29页 |
| 2.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.2 催化剂的分析 | 第23-29页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析（XRD） | 第23-24页 |
| 2.2.2 透射电镜 | 第24页 |
| 2.2.3 紫外-可见漫反射光谱 | 第24页 |
| 2.2.4 比表面积 | 第24页 |
| 2.2.5 X射线光电子能谱 | 第24-25页 |
| 2.2.6 原位红外表征 | 第25页 |
| 2.2.7 光催化活性表征 | 第25-29页 |
| 第三章 Cu_2O/TiO_2纳米异质结构的制备与光催化降解HC气体的研究 | 第29-43页 |
| 3.1 引言 | 第29-30页 |
| 3.2 实验部分 | 第30-31页 |
| 3.2.1 Cu_2O/TiO_2催化剂的制备 | 第30页 |
| 3.2.2 催化剂表征与测试 | 第30-31页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第31-41页 |
| 3.3.1 XRD表征 | 第31-32页 |
| 3.3.2 TEM和HRTEM表征 | 第32-33页 |
| 3.3.3 UV-VIS/DRS表征 | 第33页 |
| 3.3.4 光催化降解C3H8和C2H4 | 第33-36页 |
| 3.3.5 光催化剂的稳定性 | 第36-38页 |
| 3.3.6 催化机理讨论 | 第38-41页 |
| 3.4 总结 | 第41-43页 |
| 第四章 WO_3/TiO_2复合材料的制备与光催化降解HC气体的研究 | 第43-67页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 实验部分 | 第44-45页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第44页 |
| 4.2.2 异质结构的制备 | 第44-45页 |
| 4.2.3 催化剂表征与光催化测试 | 第45页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第45-66页 |
| 4.3.1 XRD表征 | 第45-47页 |
| 4.3.2 UV-VIS/DRS表征 | 第47-49页 |
| 4.3.3 TEM和HRTEM表征 | 第49-50页 |
| 4.3.4 光催化活性的测试 | 第50-59页 |
| 4.3.5 光催化降解CH4 | 第59-61页 |
| 4.3.6 XPS分析 | 第61-62页 |
| 4.3.7 光催化降解甲基橙 | 第62-63页 |
| 4.3.8 光催化机理分析 | 第63-66页 |
| 4.4 结论 | 第66-67页 |
| 第五章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第79-80页 |
