摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 镁合金医学应用中存在的问题及解决办法 | 第11-13页 |
1.2.1 镁合金医学应用中存在的问题 | 第11页 |
1.2.2 镁合金表面改性方法 | 第11-13页 |
1.3 金属表面硅烷化处理的研究进展 | 第13-20页 |
1.3.1 硅烷化处理作用机理及方法 | 第13-17页 |
1.3.2 电化学辅助沉积硅烷处理 | 第17页 |
1.3.3 表面硅烷化处理研究现状 | 第17-19页 |
1.3.4 镁合金表面硅烷化处理研究进展 | 第19-20页 |
1.4 研究目的及研究内容 | 第20-22页 |
1.4.1 研究目的 | 第20-21页 |
1.4.2 研究内容 | 第21-22页 |
第二章 实验材料和方法 | 第22-29页 |
2.1 实验基材 | 第22页 |
2.2 化学试剂及仪器 | 第22-23页 |
2.3 实验技术路线图 | 第23页 |
2.4 实验方案 | 第23-29页 |
2.4.1 样品制备 | 第23-27页 |
2.4.1.1 实验基材的预处理 | 第23-25页 |
2.4.1.2 硅烷溶液或改性硅烷溶液的配制 | 第25页 |
2.4.1.3 电化学辅助沉积制备硅烷膜层 | 第25-27页 |
2.4.2 微观组织结构及性能表征 | 第27-29页 |
2.4.2.1 微观组织结构表征 | 第27页 |
2.4.2.2 耐蚀性能表征 | 第27-29页 |
第三章 电沉积硅烷膜对镁合金耐蚀性能的影响 | 第29-59页 |
3.1 KH-560硅烷膜 | 第29-39页 |
3.1.1 电沉积制备与微观形貌观察 | 第29-32页 |
3.1.2 电化学性能及腐蚀形貌 | 第32-39页 |
3.2 KH-570硅烷膜 | 第39-48页 |
3.2.1 电沉积制备与微观形貌观察 | 第39-42页 |
3.2.2 电化学性能及腐蚀形貌 | 第42-48页 |
3.3 BTSE硅烷膜 | 第48-57页 |
3.3.1 电沉积制备与微观形貌观察 | 第48-52页 |
3.3.2 电化学性能及腐蚀形貌 | 第52-57页 |
3.4 本章小结 | 第57-59页 |
第四章 镁合金表面电沉积硅烷膜的改性研究 | 第59-98页 |
4.1 添加二氧化硅纳米颗粒对硅烷膜的改性研究 | 第59-78页 |
4.1.1 KH-560硅烷膜 | 第59-65页 |
4.1.1.1 改性硅烷膜层制备与微观形貌观察 | 第59-60页 |
4.1.1.2 改性硅烷膜层电化学性能及腐蚀形貌 | 第60-65页 |
4.1.2 KH-570硅烷膜 | 第65-71页 |
4.1.2.1 改性硅烷膜层制备与微观形貌观察 | 第65-67页 |
4.1.2.2 改性硅烷膜层电化学性能及腐蚀形貌 | 第67-71页 |
4.1.3 BTSE硅烷膜 | 第71-77页 |
4.1.3.1 改性硅烷膜层制备与微观形貌观察 | 第71-73页 |
4.1.3.2 改性硅烷膜层电化学性能及腐蚀形貌 | 第73-77页 |
4.1.4 添加二氧化硅纳米颗粒对不同硅烷膜改性效果的对比 | 第77-78页 |
4.2 添加铈盐离子对硅烷膜的改性研究 | 第78-96页 |
4.2.1 KH-560硅烷膜 | 第78-84页 |
4.2.1.1 改性硅烷膜层制备与微观形貌观察 | 第78-80页 |
4.2.1.2 改性硅烷膜层电化学性能及腐蚀形貌 | 第80-84页 |
4.2.2 KH-570硅烷膜 | 第84-90页 |
4.2.2.1 改性硅烷膜层制备与微观形貌观察 | 第84-86页 |
4.2.2.2 改性硅烷膜层电化学性能及腐蚀形貌 | 第86-90页 |
4.2.3 BTSE硅烷膜 | 第90-96页 |
4.2.3.1 改性硅烷膜层制备与微观形貌观察 | 第90-92页 |
4.2.3.2 改性硅烷膜层电化学性能及腐蚀形貌 | 第92-96页 |
4.2.4 添加铈盐离子对不同硅烷膜改性效果的对比 | 第96页 |
4.3 本章小结 | 第96-98页 |
第五章 结论与展望 | 第98-99页 |
5.1 结论 | 第98页 |
5.2 展望 | 第98-99页 |
致谢 | 第99-100页 |
参考文献 | 第100-103页 |
作者简介 | 第103页 |