| 摘要 | 第4-8页 |
| ABSTRACT | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第18-25页 |
| 1.1 引言 | 第18页 |
| 1.2 TCO材料的性质 | 第18-22页 |
| 1.2.1 TCO材料的电学特性 | 第18-19页 |
| 1.2.2 TCO材料的光学特性 | 第19-22页 |
| 1.3 AZO薄膜特性及应用 | 第22-24页 |
| 1.3.1 AZO薄膜特性 | 第22-23页 |
| 1.3.2 AZO薄膜应用 | 第23-24页 |
| 1.3.2.1 透明电极 | 第23页 |
| 1.3.2.2 热镜 | 第23页 |
| 1.3.2.3 气敏传感器 | 第23页 |
| 1.3.2.4 电磁屏蔽层 | 第23-24页 |
| 1.3.2.5 防静电膜 | 第24页 |
| 1.4 本论文的研究内容与意义 | 第24-25页 |
| 第二章 实验方法 | 第25-39页 |
| 2.1 AZO陶瓷靶材制备方法 | 第25-26页 |
| 2.1.1 常压烧结法 | 第25页 |
| 2.1.2 真空热压法 | 第25页 |
| 2.1.3 热均压(HIP)法 | 第25-26页 |
| 2.2 AZO薄膜的制备方法 | 第26-30页 |
| 2.2.1 真空蒸发法 | 第26页 |
| 2.2.2 磁控溅射法 | 第26-27页 |
| 2.2.3 脉冲激光沉积法(PLD) | 第27-28页 |
| 2.2.4 分子束外延法(MBE) | 第28-29页 |
| 2.2.5 化学气相沉积法(CVD) | 第29页 |
| 2.2.6 喷雾热解法[48] | 第29-30页 |
| 2.2.7 溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第30页 |
| 2.3 表征方法 | 第30-37页 |
| 2.3.1 X射线衍射(X-ray diffraction,XRD) | 第30-32页 |
| 2.3.2 霍尔测试仪(HALL) | 第32-35页 |
| 2.3.3 紫外可见分光光度计(UV) | 第35-36页 |
| 2.3.4 台阶仪 | 第36页 |
| 2.3.5 能谱仪(EDS) | 第36页 |
| 2.3.6 同步热重分析仪-差示扫描量热仪(TG-DSC) | 第36页 |
| 2.3.7 光致发光光谱仪(PL) | 第36-37页 |
| 2.4 实验药品及实验仪器 | 第37-39页 |
| 第三章 AZO薄膜的制备及表征 | 第39-61页 |
| 3.1 AZO陶瓷靶材的制备流程及其烧结工艺 | 第39-43页 |
| 3.1.1 研究现状 | 第39-40页 |
| 3.1.2 AZO陶瓷靶材的制备流程 | 第40-41页 |
| 3.1.3 AZO靶材的烧结工艺 | 第41-43页 |
| 3.2 AZO薄膜的制备及其表征 | 第43-59页 |
| 3.2.1 工艺流程 | 第44-45页 |
| 3.2.2 AZO薄膜及粉末成分分析 | 第45-47页 |
| 3.2.3 靶基距对AZO薄膜性能的影响 | 第47-53页 |
| 3.2.3.1 靶基距对AZO薄膜相结构的影响 | 第47-49页 |
| 3.2.3.2 靶基距对AZO薄膜电学性能的影响 | 第49-50页 |
| 3.2.3.3 靶基距对AZO薄膜光学性能的影响 | 第50-52页 |
| 3.2.3.4 靶基距对AZO薄膜品质因子的影响 | 第52-53页 |
| 3.2.4 溅射角对AZO薄膜性能的影响 | 第53-59页 |
| 3.2.4.1 溅射角对AZO薄膜相结构的影响 | 第54-55页 |
| 3.2.4.2 溅射角对AZO薄膜电学性能的影响 | 第55-57页 |
| 3.2.4.3 溅射角对AZO薄膜光学性能的影响 | 第57-59页 |
| 3.2.4.4 溅射角对AZO薄膜品质因子的影响 | 第59页 |
| 3.3 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 退火对AZO薄膜性能的影响 | 第61-78页 |
| 4.1 薄膜退火 | 第61-63页 |
| 4.1.1 薄膜后处理研究现状 | 第61页 |
| 4.1.2 退火原理 | 第61页 |
| 4.1.3 退火曲线 | 第61-62页 |
| 4.1.4 AZO薄膜应力模型 | 第62页 |
| 4.1.5 AZO薄膜退火样品制备 | 第62-63页 |
| 4.2 退火温度对AZO薄膜性能的影响 | 第63-70页 |
| 4.2.1 退火温度对AZO薄膜相结构及应力的影响 | 第63-65页 |
| 4.2.2 退火温度对AZO薄膜电学性能的影响 | 第65-66页 |
| 4.2.3 退火温度对AZO薄膜光学性能的影响 | 第66-69页 |
| 4.2.4 退火温度对AZO薄膜品质因子的影响 | 第69-70页 |
| 4.3 退火时间对AZO薄膜性能的影响 | 第70-76页 |
| 4.3.1 退火时间对AZO薄膜相结构及应力的影响 | 第70-72页 |
| 4.3.2 退火时间对AZO薄膜电学性能的影响 | 第72-74页 |
| 4.3.3 退火时间对AZO薄膜光学性能的影响 | 第74-75页 |
| 4.3.4 退火时间对AZO薄膜品质因子的影响 | 第75-76页 |
| 4.4 本章小结 | 第76-78页 |
| 第五章 总结与展望 | 第78-81页 |
| 5.1 总结 | 第78-80页 |
| 5.2 展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第86页 |
