摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-25页 |
1.1 超细钨粉研究进展 | 第10-11页 |
1.2 氧化钨氢还原的理论基础 | 第11-15页 |
1.2.1 氧化钨还原体系 | 第11-12页 |
1.2.2 氧化钨氢还原热力学基础 | 第12-14页 |
1.2.3 氧化钨氢还原动力学机理 | 第14-15页 |
1.3 还原动力学模型研究进展 | 第15-22页 |
1.4 晶体表面气体分子吸附理论 | 第22-23页 |
1.4.1 吸附与脱附 | 第22页 |
1.4.2 物理吸附与化学吸附 | 第22-23页 |
1.5 课题意义与研究内容 | 第23-25页 |
1.5.1 课题意义 | 第23页 |
1.5.2 研究内容 | 第23-25页 |
第二章 研究方法 | 第25-31页 |
2.1 第一性计算原理 | 第25-28页 |
2.1.1 密度泛函理论 | 第25-27页 |
2.1.2 交换相关能近似 | 第27页 |
2.1.3 平面波赝势 | 第27-28页 |
2.2 计算软件介绍 | 第28-30页 |
2.2.1 Materials Studio软件 | 第28-29页 |
2.2.2 CASTEP模块介绍 | 第29-30页 |
2.3 TG-DSC同步热分析 | 第30-31页 |
第三章 WO_3(001)表面氢吸附机理的第一性原理研究 | 第31-41页 |
3.1 计算模型及方法 | 第31-33页 |
3.1.1 WO_3结构模型 | 第31页 |
3.1.2 WO_3(001)结构模型 | 第31-32页 |
3.1.3 计算方法 | 第32-33页 |
3.2 计算结果及讨论 | 第33-39页 |
3.2.1 WO_3晶体结构性质 | 第33-34页 |
3.2.2 WO_3(001)表面原子结构和电子结构 | 第34-35页 |
3.2.3 H原子在WO_3(001)表面的吸附 | 第35-37页 |
3.2.4 WO终止(001)表面H原子吸附的态密度分布 | 第37-38页 |
3.2.5 O终止(001)表面吸附的态密度分布 | 第38-39页 |
3.3 本章小结 | 第39-41页 |
第四章 W_(20)O_(58)(010)表面氢吸附机理的第一性原理研究 | 第41-53页 |
4.1 计算模型及方法 | 第41-43页 |
4.1.1 W_(20)O_(58)结构模型 | 第41页 |
4.1.2 W_(20)O_(58)(010)结构模型 | 第41-42页 |
4.1.3 计算方法 | 第42-43页 |
4.2 计算结果及讨论 | 第43-51页 |
4.2.1 W_(20)O_(58)晶体结构性质 | 第43-44页 |
4.2.2 W_(20)O_(58)(010)表面原子结构和电子结构 | 第44-45页 |
4.2.3 H_2在W_(20)O_(58)(010)表面的吸附与解离 | 第45-48页 |
4.2.4 稳定吸附构型H_2分子吸附的态密度分布 | 第48-51页 |
4.3 本章小结 | 第51-53页 |
第五章 W_(18)O_(49)(010)表面氢吸附机理的第一性原理研究 | 第53-62页 |
5.1 计算模型及方法 | 第53-55页 |
5.1.1 W_(18)O_(49)结构模型 | 第53页 |
5.1.2 W_(18)O_(49)(010)结构模型 | 第53-54页 |
5.1.3 计算方法 | 第54-55页 |
5.2 计算结果及讨论 | 第55-60页 |
5.2.1 W_(18)O_(49)晶体结构性质 | 第55-56页 |
5.2.2 W_(18)O_(49)(010)表面原子结构和电子结构 | 第56-57页 |
5.2.3 H_2在W_(18)O_(49)(010)表面的吸附与解离 | 第57-59页 |
5.2.4 O终止(001)表面H_2分子吸附的态密度分布 | 第59-60页 |
5.3 本章小结 | 第60-62页 |
第六章 氧化钨氢还原动力学分析 | 第62-70页 |
6.1 WO_3氢还原动力学分析 | 第62-65页 |
6.2 WO_(2.90) 氢还原动力学分析 | 第65-67页 |
6.3 WO_(2.72) 氢还原动力学分析 | 第67-69页 |
6.4 氧化钨氢还原动力学机理分析 | 第69页 |
6.5 本章小结 | 第69-70页 |
第七章 结论 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-77页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第77-78页 |