摘要 | 第13-15页 |
Abstract | 第15-17页 |
符号简写说明 | 第18-19页 |
第一章 绪论 | 第19-31页 |
1.1 铁电材料特点 | 第19-21页 |
1.2 铁电材料分类 | 第21页 |
1.3 铁电薄膜的制备方法 | 第21-23页 |
1.4 磁控溅射制备铁电薄膜的影响因素 | 第23-26页 |
1.4.1 基体温度 | 第23-24页 |
1.4.2 溅射功率 | 第24-25页 |
1.4.3 降温气氛 | 第25页 |
1.4.4 溅射气压 | 第25-26页 |
1.4.5 其他影响因素 | 第26页 |
1.5 铋层钙钛矿结构铁电材料的结构及性能特点 | 第26-27页 |
1.6 CaBi_2Nb_2O_9的研究现状 | 第27-29页 |
1.7 本课题的研究目标及内容 | 第29-31页 |
1.7.1 本课题的研究目标及意义 | 第29-30页 |
1.7.2 本课题的主要研究内容 | 第30-31页 |
第二章 CaBi_2Nb_2O_9薄膜的制备与表征 | 第31-39页 |
2.1 薄膜的制备 | 第31-34页 |
2.1.1 CBNO薄膜设计依据 | 第31-32页 |
2.1.2 实验材料及仪器 | 第32-33页 |
2.1.3 薄膜沉积步骤 | 第33-34页 |
2.2 薄膜的结构及成分表征 | 第34-35页 |
2.2.1 晶体结构 | 第34页 |
2.2.2 化学成分 | 第34页 |
2.2.3 微观结构及形貌 | 第34-35页 |
2.3 薄膜的电学性能表征 | 第35-39页 |
2.3.1 铁电性能 | 第35-36页 |
2.3.2 介电性能 | 第36-37页 |
2.3.3 压电性能 | 第37-39页 |
第三章 应变调控生长CaBi_2Nb_2O_9薄膜 | 第39-57页 |
3.1 基底取向对CBNO薄膜的影响 | 第39-51页 |
3.1.1 实验参数 | 第40-41页 |
3.1.2 晶体结构 | 第41-43页 |
3.1.3 微观形貌 | 第43-45页 |
3.1.4 化学组成 | 第45-46页 |
3.1.5 铁电性能 | 第46-48页 |
3.1.6 介电性能 | 第48-51页 |
3.2 厚度对CBNO薄膜的影响 | 第51-56页 |
3.2.1 实验参数 | 第51-52页 |
3.2.2 晶体结构 | 第52-53页 |
3.2.3 微观形貌 | 第53页 |
3.2.4 铁电性能 | 第53-54页 |
3.2.5 介电性能 | 第54-56页 |
3.3 本章小结 | 第56-57页 |
第四章 高度取向CaBi_2Nb_2O_9薄膜的制备 | 第57-69页 |
4.1 YSZ基体上生长高度取向的CBNO薄膜 | 第57-61页 |
4.1.1 降温气氛的影响 | 第57-59页 |
4.1.2 电极厚度的影响 | 第59-61页 |
4.2 Si基体上生长高度取向的CBNO薄膜 | 第61-67页 |
4.2.1 缓冲层的设计 | 第61-62页 |
4.2.2 实验参数 | 第62-63页 |
4.2.3 晶体结构 | 第63-64页 |
4.2.4 铁电性能 | 第64-65页 |
4.2.5 介电性能 | 第65-66页 |
4.2.6 压电性能 | 第66-67页 |
4.3 本章小结 | 第67-69页 |
第五章 CaBi_2Nb_2O_9薄膜的中低温制备 | 第69-83页 |
5.1 基体温度对CBNO薄膜的影响 | 第69-74页 |
5.1.1 晶体结构 | 第69-70页 |
5.1.2 微观形貌 | 第70-71页 |
5.1.3 铁电性能 | 第71-73页 |
5.1.4 介电性能 | 第73-74页 |
5.2 镀膜功率对CBNO薄膜的影响 | 第74-78页 |
5.2.1 晶体结构 | 第75页 |
5.2.2 微观形貌 | 第75-76页 |
5.2.3 铁电性能 | 第76-77页 |
5.2.4 介电性能 | 第77-78页 |
5.3 LaNiO_3缓冲层对CBNO薄膜的影响 | 第78-81页 |
5.3.1 晶体结构 | 第78-79页 |
5.3.2 铁电性能 | 第79-80页 |
5.3.3 介电性能 | 第80-81页 |
5.4 本章小结 | 第81-83页 |
第六章 结论与展望 | 第83-87页 |
6.1 结论 | 第83-84页 |
6.2 展望 | 第84-85页 |
6.3 创新点 | 第85-87页 |
参考文献 | 第87-97页 |
致谢 | 第97-99页 |
攻读硕士期间发表的论文和取得的成果 | 第99-100页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第100页 |