多弧离子镀大颗粒的去除及脉冲偏压对膜层特性的影响研究
| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第15-20页 |
| 1.1 研究背景 | 第15-16页 |
| 1.2 多弧离子镀的基本原理与结构 | 第16-17页 |
| 1.3 多弧离子镀大颗粒问题研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 四面体非晶碳（ta-C）膜 | 第18-19页 |
| 1.5 研究思路与目的 | 第19-20页 |
| 第二章 大颗粒的产生以及去除理论分析 | 第20-29页 |
| 2.1 大颗粒的产生 | 第20页 |
| 2.2 大颗粒的运输过程 | 第20-21页 |
| 2.3 大颗粒的去除理论 | 第21-29页 |
| 2.3.1 大颗粒发射的抑制 | 第21-22页 |
| 2.3.2 大颗粒运输过程中的过滤 | 第22-25页 |
| 2.3.3 脉冲偏压对大颗粒的抑制作用 | 第25-29页 |
| 2.3.3.1 脉冲偏压的溅射作用 | 第25页 |
| 2.3.3.2 等离子体鞘层对大颗粒的抑制 | 第25-29页 |
| 第三章 实验设备、方法及分析测试 | 第29-34页 |
| 3.1 脉冲偏压磁过滤多弧离子镀设备 | 第29-31页 |
| 3.2 四面体非晶碳（ta-C）膜的制备 | 第31-32页 |
| 3.3 分析测试方法及仪器 | 第32-34页 |
| 第四章 采用弯管磁过滤器去除大颗粒的研究 | 第34-49页 |
| 4.1 弯管磁过滤器结构设计的关键因素 | 第34-37页 |
| 4.2 弯管磁过滤器效率的提升 | 第37-45页 |
| 4.2.1 磁过滤器线圈电流对其效率的影响 | 第38-39页 |
| 4.2.2 磁过滤器机械挡板孔径对其效率的影响 | 第39-42页 |
| 4.2.3 磁过滤器弯管偏压对其效率的影响 | 第42-43页 |
| 4.2.4 磁过滤器的整体效率 | 第43-45页 |
| 4.3 弯管磁过滤器的大颗粒去除效果 | 第45-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 采用脉冲偏压改善膜层综合性能研究 | 第49-56页 |
| 5.1 膜层制备参数设计 | 第49页 |
| 5.2 脉冲偏压对膜厚与硬度的影响 | 第49-51页 |
| 5.3 脉冲偏压对膜层大颗粒的影响 | 第51-53页 |
| 5.4 脉冲偏压对膜层键价结构的影响 | 第53-55页 |
| 5.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 6.1 全文总结 | 第56-57页 |
| 6.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 攻读学位期间的学术活动及成果清单 | 第62-63页 |
