| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-31页 |
| 引言 | 第9页 |
| ·磁化强度动力学理论 | 第9-15页 |
| ·无阻尼情况下无限大样品的进动频率 | 第10-11页 |
| ·铁磁性薄膜材料在面内位型下的本征共振频率 | 第11-12页 |
| ·垂直位型下磁化强度的稳定位置 | 第12-13页 |
| ·铁磁性薄膜材料在垂直位型下的本征共振频率 | 第13-15页 |
| ·自旋波 | 第15-18页 |
| ·自旋波的简介 | 第15-16页 |
| ·自旋波的探测 | 第16页 |
| ·自旋波的应用 | 第16-18页 |
| ·铁磁金属薄膜中的自旋波 | 第18-23页 |
| ·铁磁性材料中自旋波的分类 | 第18-19页 |
| ·表面钉扎模型 | 第19-20页 |
| ·铁磁薄膜中自旋驻波的基泰尔方程和交换作用等效场的方向 | 第20-22页 |
| ·自旋驻波的数学表达式 | 第22-23页 |
| ·自旋整流效应 | 第23-26页 |
| ·自旋整流效应的基本原理 | 第23-25页 |
| ·广义欧姆定律 | 第25-26页 |
| ·本论文的研究内容及研究意义 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-31页 |
| 第二章 自旋整流器件的制备与测量 | 第31-40页 |
| 引言 | 第31页 |
| ·磁控溅射制备Py薄膜 | 第31-35页 |
| ·溅射工作气压对Py薄膜质量的影响 | 第31-33页 |
| ·溅射功率对Py薄膜质量的影响 | 第33页 |
| ·退火温度对Py薄膜质量的影响 | 第33-34页 |
| ·薄膜厚度对AMR的影响 | 第34-35页 |
| ·自旋整流器件的制作 | 第35-37页 |
| ·自旋整流器件的测量 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |
| 第三章 垂直位型下铁磁共振和自旋激发的角依赖色散关系推导 | 第40-53页 |
| 引言 | 第40页 |
| ·垂直位型下铁磁薄膜的能量的角度依赖关系 | 第40-43页 |
| ·塞曼能的角依赖关系 | 第40-41页 |
| ·退磁能的角依赖关系 | 第41-42页 |
| ·单轴晶体的磁晶各向异性能的角依赖关系 | 第42页 |
| ·交换作用等效场和交换能 | 第42页 |
| ·磁化强度在外加磁场下的平衡位置 | 第42-43页 |
| ·铁磁共振的角依赖色散关系式的推导 | 第43-44页 |
| ·自旋驻波的角依赖色散关系式的推导 | 第44-49页 |
| ·前向体静磁模的角依赖色散关系式的经验推导 | 第49-50页 |
| ·角依赖研究方法的原理 | 第50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第四章 铁磁共振和自旋激发的角度相关的自旋整流研究 | 第53-64页 |
| 引言 | 第53页 |
| ·实验样品和测试设备简介 | 第53-54页 |
| ·铁磁共振和自旋激发的角依赖研究 | 第54-60页 |
| ·角依赖的方法对铁磁共振和垂直自旋驻波进行模拟分析 | 第54-56页 |
| ·“水滴”图形的物理意义分析 | 第56-57页 |
| ·对前向体静磁模进行模拟分析 | 第57-58页 |
| ·自旋整流信号随外场的角度变化关系 | 第58-60页 |
| ·利用传统的色散方法对角依赖的研究方法进行验证 | 第60-61页 |
| ·讨论和小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第五章 样品形状对铁磁共振和自旋激发的影响 | 第64-75页 |
| 引言 | 第64页 |
| ·实验样品及测量 | 第64-65页 |
| ·样品形状对铁磁共振和自旋驻波的影响结果及分析 | 第65-69页 |
| ·实验结果及其模拟分析 | 第65-67页 |
| ·样品形状对饱和磁化强度的影响 | 第67-68页 |
| ·样品形状对边界条件的影响 | 第68-69页 |
| ·铁磁共振和自旋驻波的线宽变化及形状对线宽的影响 | 第69-72页 |
| ·铁磁共振和自旋驻波的线宽随外磁场角度的变化关系 | 第69-71页 |
| ·样品形状对铁磁共振和自旋驻波的线宽的影响 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-75页 |
| 第六章 结束语 | 第75-77页 |
| ·本文主要研究内容总结 | 第75-76页 |
| ·工作展望 | 第76-77页 |
| 硕士期间研究成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
