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小电流密度钛合金TC4微弧氧化膜制备研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-13页
   ·课题来源及研究意义和目的第9页
     ·课题来源第9页
     ·课题研究意义第9页
     ·课题研究目的第9页
   ·微弧氧化技术第9-12页
     ·微弧氧化技术第9-10页
     ·微弧氧化技术发展现状第10页
     ·微弧氧化机理第10页
     ·钛合金微弧氧化国内外研究现状第10-11页
     ·钛合金微弧氧化存在的问题第11-12页
   ·本课题研究的主要内容第12-13页
第2章 试验条件和试验方法第13-18页
   ·试验条件第13-16页
     ·试验设备第13-14页
     ·试验材料第14页
     ·试验试剂第14页
     ·测试方法第14-16页
   ·试验方法优化第16-17页
   ·本章小结第17-18页
第3章 小电流密度钛合金TC4 微弧氧化膜制备工艺的研究第18-48页
   ·三种电解液体系下工艺参数对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第18-21页
     ·磷酸盐体系对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第18-19页
     ·硅酸盐体系对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第19-20页
     ·铝酸盐体系对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第20-21页
   ·三种电解液体系下工艺参数的正交试验研究及分析第21-25页
     ·磷酸盐体系下正交试验研究及分析第22-23页
     ·硅酸盐体系下正交试验研究及分析第23-24页
     ·铝酸盐体系下正交试验研究及分析第24-25页
   ·三种电解液体系下电参数和时间对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第25-40页
     ·磷酸盐体系下电参数和时间对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第25-31页
     ·硅酸盐体系下电参数和时间对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第31-35页
     ·铝酸盐体系下电参数和时间对钛合金TC4 微弧氧化膜的影响第35-40页
   ·三种电解液体系下电参数和时间正交试验研究及分析第40-44页
     ·磷酸盐体系电参数和时间正交试验研究及分析第41-42页
     ·硅酸盐体系电参数和时间正交试验研究及分析第42-43页
     ·铝酸盐体系电参数和时间正交试验研究及分析第43-44页
   ·最优制备工艺方案的确定第44-45页
   ·电解液稳定性对微弧氧化膜的影响第45-47页
     ·电解液稳定性对膜层厚度的影响第45-46页
     ·电解液稳定性对膜层耐腐性的影响第46-47页
   ·本章小结第47-48页
第4章 纳米Al_20_3对钛合金TC4 微弧氧化膜改性的研究第48-64页
   ·纳米Al_20_3 添加剂对微弧氧化膜的影响第48-50页
     ·纳米Al_20_3 添加剂对微弧氧化膜表面形貌的影响第48页
     ·纳米Al_20_3 添加剂对微弧氧化膜厚度的影响第48-49页
     ·纳米Al_20_3 添加剂对微弧氧化膜耐腐性的影响第49-50页
   ·运用神经网络建立Al_20_3、电参数和时间对微弧氧化膜性能预测模型第50-55页
     ·试验方案的确定第50页
     ·试验结果第50-51页
     ·运用神经网络建立预测模型第51-55页
   ·计算膜层孔隙面积和比较膜层致密性方法的研究第55-60页
     ·膜层的电阻、疏松层和致密层电容随浸泡时间的变化规律第56-57页
     ·膜层的自腐蚀电流与膜层电阻、疏松层和致密层电容之间关系第57-58页
     ·膜层自腐蚀电流与膜层孔隙面积、疏松层和致密层致密性之间关系的研究第58-60页
   ·纳米Al_20_3 对提高微弧氧化膜层耐腐蚀性机理的研究第60-63页
   ·本章小结第63-64页
第5章 小电流密度钛合金TC4 微弧氧化反应的研究第64-75页
   ·不同电解液体系微弧氧化热力学反应的研究第64-70页
     ·磷酸盐体系微弧氧化热力学反应的研究第64-68页
     ·铝酸盐体系微弧氧化热力学反应机理的研究第68-69页
     ·硅酸盐体系微弧氧化热力学反应机理的研究第69-70页
   ·两种后处理方式对钛合金TC4 微弧氧化膜耐腐性能的研究第70-74页
     ·两种处理方式对钛合金TC4 微弧氧化膜耐腐性的影响第70-71页
     ·两种处理方式提高钛合金TC4 微弧氧化膜耐腐性机理的研究第71-74页
   ·本章小结第74-75页
结论第75-76页
参考文献第76-80页
攻读硕士学位期间所发表的学位论文第80-82页
致谢第82页

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