| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-14页 |
| ·论文研究背景和意义 | 第6-7页 |
| ·国内外研究现状 | 第7-12页 |
| ·锑化物LD的发展现状 | 第7-8页 |
| ·DFB-LD的研究现状 | 第8-9页 |
| ·布拉格光栅的研究现状 | 第9-11页 |
| ·锑化物DFB-LD制备的困难 | 第11-12页 |
| ·本论文的主要工作 | 第12-14页 |
| 第二章 锑化物DFB-LD相关理论及结构模拟设计 | 第14-21页 |
| ·分布反馈半导体激光器相关理论 | 第14-17页 |
| ·DFB-LD模拟与结果分析 | 第17-19页 |
| ·本章小结 | 第19-21页 |
| 第三章 锑化物布拉格光栅制备技术 | 第21-31页 |
| ·全息光刻技术 | 第21-26页 |
| ·全息曝光实验的工艺优化 | 第21-26页 |
| ·锑化物的湿法腐蚀和干法刻蚀 | 第26-30页 |
| ·锑化物的湿法腐蚀 | 第26-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 2μm锑化物DFB-LD布拉格光栅的设计、制备与表征 | 第31-40页 |
| ·2 μm锑化物DFB-LD布拉格光栅的实验设计 | 第31-34页 |
| ·2μm锑化物DFB-LD布拉格光栅的级数和周期的设计 | 第31-32页 |
| ·GaSb的Bragg光栅的占空比和深度的模拟设计 | 第32-34页 |
| ·2μm DFB-LD Bragg光栅的制备工艺 | 第34-36页 |
| ·2 μm DFB-LD中二阶Bragg光栅的制备 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第五章 总结与展望 | 第40-41页 |
| 致谢 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第44页 |
