| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| ·课题的研究背景 | 第8页 |
| ·污水处理方法的分类 | 第8-11页 |
| ·常规的处理方法 | 第8-9页 |
| ·电化学法 | 第9-11页 |
| ·本征金刚石与掺杂金刚石 | 第11-16页 |
| ·本征金刚石 | 第11-14页 |
| ·掺杂金刚石 | 第14-16页 |
| ·BDD薄膜的表面修饰 | 第16-18页 |
| ·等离子体处理 | 第16页 |
| ·化学反应法 | 第16-17页 |
| ·沉积薄膜法 | 第17页 |
| ·离子注入和电沉积 | 第17页 |
| ·光化学修饰法 | 第17-18页 |
| ·BDD薄膜的电化学性质 | 第18-20页 |
| ·宽的电势窗口,低的背景电流 | 第18-19页 |
| ·低吸附性 | 第19页 |
| ·高化学稳定性 | 第19-20页 |
| ·自净化能力 | 第20页 |
| ·电解稳定,效率高 | 第20页 |
| ·BDD薄膜的应用 | 第20-22页 |
| ·电化学合成 | 第20页 |
| ·在污水处理中的应用 | 第20-21页 |
| ·电化学检测 | 第21页 |
| ·生物传感器方面的应用 | 第21-22页 |
| ·本文的研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验原理与过程 | 第23-33页 |
| ·HFCVD沉积金刚石薄膜原理 | 第23-25页 |
| ·HFCVD沉积原理 | 第23-24页 |
| ·实验设备 | 第24-25页 |
| ·BDD薄膜导电机理 | 第25-26页 |
| ·实验过程 | 第26-28页 |
| ·实验材料 | 第26页 |
| ·基体预处理 | 第26-27页 |
| ·BDD膜表面修饰 | 第27页 |
| ·灯丝预处理 | 第27-28页 |
| ·试验流程图 | 第28页 |
| ·样品表征 | 第28-33页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第28-29页 |
| ·X射线衍射仪 | 第29-30页 |
| ·拉曼光谱仪 | 第30页 |
| ·电化学工作站 | 第30-33页 |
| 第三章 BDD薄膜的制备与表征 | 第33-42页 |
| ·沉积条件 | 第33页 |
| ·硼掺杂对金刚石薄膜物相的影响 | 第33-34页 |
| ·不同硼烷甲烷体积比的金刚石薄膜的扫描电镜分析 | 第34-36页 |
| ·不同硼烷甲烷体积比金刚石薄膜的拉曼光谱 | 第36-39页 |
| ·硼烷甲烷体积比对拉曼曲线的影响 | 第36-37页 |
| ·薄膜晶粒内部掺硼量的计算 | 第37-39页 |
| ·薄膜均匀性的表征 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 BDD电极的电化学性能 | 第42-57页 |
| ·电化学检测原理 | 第43-44页 |
| ·电极封装 | 第44-45页 |
| ·V(B_2H_6)/V(CH_4)对BDD电极的电势窗口和背景电流的影响 | 第45-46页 |
| ·不同电解液对金刚石电极电化学性能的影响 | 第46-49页 |
| ·表面修饰对BDD电极电化学性能的影响 | 第49-52页 |
| ·混酸处理对BDD膜Raman光谱的影响 | 第49-50页 |
| ·表面修饰对BDD电极的电化学性能的影响 | 第50-52页 |
| ·掺硼浓度对BDD电极电化学降解苯酚性能的影响 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 结论与展望 | 第57-59页 |
| 结论 | 第57页 |
| 展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第66页 |