| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 图表清单 | 第9-12页 |
| 注释表 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-24页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·氮化碳的结构与性质 | 第13-15页 |
| ·氮化碳的结构 | 第13-14页 |
| ·氮化碳的性质 | 第14-15页 |
| ·氮化碳的制备及表征方法 | 第15-19页 |
| ·氮化碳的制备方法 | 第15-18页 |
| ·氮化碳的表征方法 | 第18-19页 |
| ·氮化碳薄膜的国内外研究进展及存在的问题 | 第19-22页 |
| ·氮化碳薄膜制备的研究进展 | 第19-21页 |
| ·直流电弧等离子体喷射法制备超硬膜进展 | 第21-22页 |
| ·存在的问题 | 第22页 |
| ·本文的研究内容及技术路线 | 第22-24页 |
| 第二章 直流电弧等离子体喷射设备简介及改进 | 第24-31页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·直流电弧等离子体喷射设备介绍 | 第24-28页 |
| ·直流电弧等离子体喷射法原理 | 第24-25页 |
| ·设备组成及主要技术参数 | 第25-27页 |
| ·设备操作 | 第27-28页 |
| ·直流电弧等离子体喷射设备改进 | 第28-30页 |
| ·设备维修 | 第28页 |
| ·气路改造 | 第28-29页 |
| ·基底偏压系统 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 直流电弧等离子体喷射法的电弧稳定性研究 | 第31-43页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·电弧稳定性介绍 | 第31-32页 |
| ·金刚石膜制备中的电弧稳定性研究 | 第32-35页 |
| ·金刚石膜制备中的电弧稳定性工艺 | 第32-33页 |
| ·金刚石膜制备中电弧稳定性的讨论 | 第33-35页 |
| ·氮化碳制备中的电弧稳定性研究 | 第35-41页 |
| ·氮化碳制备中的电弧稳定性工艺研究 | 第35-38页 |
| ·氮化碳制备中电弧稳定性的讨论 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 金刚石过渡层的制备 | 第43-49页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·Mo 基底上金刚石过渡层的制备 | 第43-47页 |
| ·影响金刚石晶粒尺寸大小的因素 | 第43-44页 |
| ·实验方案设计 | 第44-45页 |
| ·金刚石过渡层的理化表征 | 第45-47页 |
| ·YG6 硬质合金刀具基底上金刚石过渡层的制备 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 氮化碳材料的制备研究 | 第49-65页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·氮化碳制备实验方案 | 第49-50页 |
| ·Si 基底上制备氮化碳的研究 | 第50-52页 |
| ·Si 基底上制备氮化碳实验 | 第50-51页 |
| ·Si 基底上制备样品的理化表征及分析 | 第51-52页 |
| ·CVD 金刚石厚膜片基底上制备氮化碳的研究 | 第52-59页 |
| ·CVD 金刚石厚膜片基底上制备氮化碳实验 | 第52页 |
| ·CVD 金刚石厚膜片基底上制备样品的理化表征及分析 | 第52-59页 |
| ·Mo 基底金刚石过渡层上制备氮化碳的研究 | 第59-63页 |
| ·微米金刚石过渡层上制备氮化碳实验 | 第59-62页 |
| ·纳米金刚石过渡层上氮化碳的制备研究 | 第62-63页 |
| ·硬质合金刀具基底上制备氮化碳的研究 | 第63-64页 |
| ·硬质合金刀具基底上制备氮化碳实验 | 第63页 |
| ·硬质合金刀具基底上制备样品的理化表征及分析 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| ·总结 | 第65-66页 |
| ·展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第72页 |