致谢 | 第1-6页 |
摘要 | 第6-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
目录 | 第8-11页 |
第一章 绪论 | 第11-24页 |
本章摘要 | 第11页 |
·论文的研究背景与意义 | 第11-14页 |
·纳米材料的定义及其性质 | 第11-13页 |
·模板法制备纳米材料及常见的模板合成方法 | 第13-14页 |
·AAO模板制备纳米材料国内外研究现状 | 第14-21页 |
·AAO模板的形貌结构及材料性能 | 第14-17页 |
·AAO模板制备纳米材料的应用现状 | 第17-21页 |
·本论文的主要研究内容和意义 | 第21-23页 |
·本章小结 | 第23-24页 |
第二章 AAO膜生长成型机理研究 | 第24-36页 |
本章摘要 | 第24页 |
·经典的AAO膜的生长模型 | 第24-29页 |
·Keller模型、O'sulliavan模型及Thompson模型 | 第24-25页 |
·临界电流密度模型 | 第25-26页 |
·Parkhutik模型 | 第26页 |
·体膨胀应力模型 | 第26-27页 |
·等场强模型 | 第27-29页 |
·阳极氧化过程所发生的基本化学反应 | 第29页 |
·氧化成孔过程稳定性建模分析 | 第29-32页 |
·有序孔阵列成孔孔径分析 | 第32-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第三章 AAO膜制备可控性研究 | 第36-47页 |
本章摘要 | 第36页 |
·AAO膜生长的关键影响因素分析 | 第36-37页 |
·AAO模板的制备实验 | 第37-40页 |
·AAO模板制备实验试剂和仪器 | 第37-39页 |
·二次氧化法制备AAO模板实验步骤和方法 | 第39-40页 |
·AAO膜制备实验结果分析 | 第40-46页 |
·AAO模板的表面形貌 | 第40-41页 |
·I-t曲线分析 | 第41-42页 |
·AAO模板孔径大小与电压的关系 | 第42-43页 |
·AAO模板孔密度大小与电压的关系 | 第43-44页 |
·电解液对AAO模板形貌的影响 | 第44-45页 |
·扩孔时间对于AAO形貌的影响 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第四章 基于AAO模板的PDMS表面纳米修饰 | 第47-60页 |
本章摘要 | 第47页 |
·PDMS材料性能简介 | 第47-49页 |
·PDMS的化学构成及功能特性 | 第47-48页 |
·PDMS的化学特性与加工性能 | 第48-49页 |
·聚合物成型的流变机理及PDMS特性参数 | 第49-51页 |
·利用AAO模板制备具有纳米阵列的PDMS材料 | 第51-55页 |
·纳米复型实验试剂和仪器 | 第52-54页 |
·纳米复型实验步骤与工艺 | 第54-55页 |
·PDMS纳米复型实验结果分析 | 第55-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
第五章 基于AAO模板的超疏水材料制备 | 第60-68页 |
本章摘要 | 第60页 |
·超疏水表面的理论研究 | 第60-63页 |
·Wenzel模型(Wenzel's model) | 第61-62页 |
·Cassie模型(Cassie's model) | 第62-63页 |
·利用AAO模板修饰的PDMS材料的超疏水性表征实验 | 第63-64页 |
·疏水性表征实验的仪器 | 第63页 |
·疏水性表征实验的步骤 | 第63-64页 |
·纳米PDMS材料疏水性表征结果分析 | 第64-67页 |
·不同模板复型的阵列PDMS膜的浸润性 | 第64-66页 |
·高静态接触角的产生原因 | 第66-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
第六章 纳米修饰的PDMS基底细胞诱导培养研究 | 第68-75页 |
本章摘要 | 第68页 |
·纳米拓扑学结构在生物学研究领域的研究及应用 | 第68-69页 |
·材料表面特性对于细胞生长的影响 | 第69-71页 |
·细胞在材料表面的响应行为 | 第69-70页 |
·表面拓扑结构对细胞行为的影响 | 第70-71页 |
·纳米修饰的PDMS细胞培养实验 | 第71-72页 |
·细胞培养实验仪器与试剂 | 第71页 |
·细胞培养实验步骤与方法 | 第71-72页 |
·细胞培养实验结果分析 | 第72-74页 |
·本章小结 | 第74-75页 |
第七章 总结与展望 | 第75-78页 |
·主要工作总结 | 第75-76页 |
·未来研究展望 | 第76-78页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和参加科研情况 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-85页 |