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碳纳米管场发射器件中发射源阵列与衬底之间接触电阻的模型研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-15页
   ·场发射研究的背景与广泛应用第10-11页
   ·碳纳米管的结构及其在场发射中的应用第11-13页
   ·本文主要研究工作第13-15页
第二章 碳纳米管发射特性及金属-半导体接触第15-23页
   ·碳纳米管的场发射特性及 F-N 原理第15-18页
   ·金属-半导体接触原理第18-21页
   ·场发射器件接触电阻建模思路第21-22页
   ·本章小结第22-23页
第三章 金属型碳纳米管与半导体衬底间接触电阻建模及模型验证第23-37页
   ·接触电阻的建模与仿真第23-29页
     ·不考虑温度变化时的接触电阻第24-26页
     ·考虑外加高温以及场发射自热效应时的接触电阻第26-29页
   ·原始发射电流方程的修正第29-32页
   ·接触电阻模型的验证第32-36页
   ·本章小结第36-37页
第四章 碳纳米管发射器件的优化设计第37-48页
   ·衬底掺杂浓度和势垒高度对发射电流的影响第37-41页
     ·衬底掺杂浓度对发射电流的影响第37-39页
     ·接触势垒高度对发射电流的影响第39-40页
     ·衬底掺杂浓度和接触势垒高度的共同影响第40-41页
   ·碳纳米管半径对发射电流的影响第41-43页
   ·温度对发射电流的影响第43-46页
     ·温度的单独影响第43-45页
     ·温度和衬底掺杂浓度的共同影响第45-46页
   ·碳纳米管场发射器件优化建议第46-47页
   ·本章小结第47-48页
结论与展望第48-50页
参考文献第50-54页
攻读硕士期间取得的研究成果第54-55页
致谢第55-56页
附件第56页

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