| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-28页 |
| ·黑硅的简介 | 第11-14页 |
| ·黑硅的制备方法 | 第12-13页 |
| ·黑硅的性能及应用 | 第13-14页 |
| ·太阳能电池简介 | 第14-26页 |
| ·硅太阳能电池的制备工序 | 第16-26页 |
| ·硅太阳能电池的研究现状 | 第26页 |
| ·黑硅太阳能电池的研究进展 | 第26-27页 |
| ·本文的研究意义和主要内容 | 第27-28页 |
| 第二章 黑硅太阳能电池的制备方法及表征原理 | 第28-37页 |
| ·黑硅的制备 | 第28-29页 |
| ·基片的清洗 | 第28页 |
| ·实验装置及工艺参数 | 第28-29页 |
| ·基片表面制绒处理 | 第29页 |
| ·黑硅太能电池的制备 | 第29页 |
| ·黑硅及黑硅太阳能电池的表征 | 第29-37页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第30-31页 |
| ·标准 8 度角积分式反射仪 | 第31-33页 |
| ·WT-2000 方阻测试仪 | 第33-34页 |
| ·Suns-Voc 测量 | 第34-35页 |
| ·pn 结结深和表面浓度测试 | 第35页 |
| ·电致发光热点测试仪 | 第35-36页 |
| ·量子效率测量 | 第36-37页 |
| 第三章 AgNO_3、H_2O_2和 HF 刻蚀系统制备黑硅 | 第37-48页 |
| ·催化刻蚀反应原理分析 | 第37-39页 |
| ·AgNO_3百分比和浓度对黑硅表面绒面的影响 | 第39-42页 |
| ·H_2O_2体积分数对黑硅表面绒面的影响 | 第42-44页 |
| ·HF 体积分数对黑硅表面绒面的影响 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 黑硅太阳能电池的制备 | 第48-61页 |
| ·黑硅太阳能电池的初步分析 | 第48-54页 |
| ·黑硅太阳电池的流片结果 | 第48-49页 |
| ·黑硅太阳电池短路电流和开路电压损失分析 | 第49-53页 |
| ·黑硅太阳电池低效分析 | 第53-54页 |
| ·不同清洗方法的研究 | 第54-60页 |
| ·不同清洗方法对黑硅的影响 | 第56-58页 |
| ·改进黑硅太阳电池的扩散工艺 | 第58页 |
| ·新的清洗方法对黑硅太阳电池电性能的影响 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 黑硅太阳能电池制备工艺的优化 | 第61-72页 |
| ·酸修正刻蚀方法的研究 | 第62-67页 |
| ·酸修正刻蚀不同时间对黑硅的影响 | 第62-64页 |
| ·酸修正刻蚀黑硅太阳电池流片分析 | 第64-66页 |
| ·改变扩散工艺后酸修正刻蚀黑硅太阳电池流片分析 | 第66-67页 |
| ·碱修正刻蚀方法的研究 | 第67-70页 |
| ·碱修正刻蚀不同时间对黑硅的影响 | 第67-69页 |
| ·碱修正刻蚀黑硅太阳电池流片分析 | 第69页 |
| ·验证 RCA 清洗的有效性 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 总结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 攻读硕士期间公开发表的论文和专利 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |