| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-15页 |
| ·透明导电薄膜概述 | 第7-8页 |
| ·ZnO 的结构及基本性质 | 第8-9页 |
| ·ZnO 透明导电膜研究现状 | 第9-11页 |
| ·ZnO 单层膜及掺杂 | 第9-10页 |
| ·ZnO 多层复合膜 | 第10-11页 |
| ·ZnO 薄膜的应用 | 第11-13页 |
| ·紫外光探测器 | 第11-12页 |
| ·发光器件 | 第12页 |
| ·透明电极 | 第12-13页 |
| ·表面声波器件 | 第13页 |
| ·本文主要内容 | 第13-15页 |
| 第2章 薄膜的制备及表征 | 第15-25页 |
| ·薄膜的制备技术 | 第15-17页 |
| ·真空蒸发法 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法 | 第16页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| ·金属有机物气相沉积法 | 第17页 |
| ·ZnO 透明导电薄膜的制备 | 第17-22页 |
| ·磁控溅射原理 | 第17-19页 |
| ·薄膜的形成 | 第19-21页 |
| ·设备介绍 | 第21页 |
| ·薄膜制备流程 | 第21-22页 |
| ·表征手段 | 第22-25页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第23-24页 |
| ·分光光度计 | 第24页 |
| ·霍尔测试 | 第24-25页 |
| 第3章 ZnO 薄膜制备及光电性能研究 | 第25-41页 |
| ·衬底温度对 ZnO 薄膜结构性能的影响 | 第25-29页 |
| ·结构形貌 | 第25-27页 |
| ·电学性能 | 第27-28页 |
| ·光学性能 | 第28-29页 |
| ·溅射功率对 ZnO 薄膜结构性能的影响 | 第29-32页 |
| ·结构形貌 | 第29-31页 |
| ·电学性能 | 第31页 |
| ·光学性能 | 第31-32页 |
| ·工作压强对 ZnO 薄膜结构性能的影响 | 第32-36页 |
| ·结构形貌 | 第33-34页 |
| ·电学性能 | 第34-35页 |
| ·光学性能 | 第35-36页 |
| ·退火温度对 ZnO 薄膜结构性能的影响 | 第36-39页 |
| ·结构形貌 | 第36-38页 |
| ·电学性能 | 第38页 |
| ·光学性能 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 Cu、ZnO 复合薄膜的制备及光电性能研究 | 第41-55页 |
| ·衬底温度对 Cu、ZnO 复合薄膜光电性能的影响 | 第41-45页 |
| ·结构形貌 | 第42-43页 |
| ·电学性能 | 第43-44页 |
| ·光学性能 | 第44-45页 |
| ·ZnO 层厚度对 Cu、ZnO 复合薄膜光电性能的影响 | 第45-48页 |
| ·结构 | 第46页 |
| ·电学性能 | 第46-47页 |
| ·光学性能 | 第47-48页 |
| ·Cu 层厚度对 Cu、ZnO 复合薄膜光电性能的影响 | 第48-52页 |
| ·结构 | 第49-50页 |
| ·电学性能 | 第50-51页 |
| ·光学性能 | 第51-52页 |
| ·三种结构 ZnO 基透明导电薄膜的性能比较 | 第52-54页 |
| ·结构 | 第52-53页 |
| ·电学性能 | 第53页 |
| ·光学性能 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 论文总结 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
