| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-19页 |
| ·有序介孔材料的研究概述 | 第11-16页 |
| ·有序介孔材料的概述 | 第11页 |
| ·有序介孔材料的合成方法 | 第11-12页 |
| ·有序介孔分子筛的研究历程 | 第12-13页 |
| ·有序介孔分子筛的形成机理研究 | 第13-16页 |
| ·有序介孔氧化硅膜的研究概况 | 第16-17页 |
| ·有序介孔氧化硅膜的合成方法 | 第16页 |
| ·多孔载体支撑的介孔膜 | 第16-17页 |
| ·介孔 MCM-48 膜的研究的概述 | 第17页 |
| ·本文选题意义及研究内容 | 第17-19页 |
| 2 介孔分子筛的合成 | 第19-33页 |
| ·实验部分 | 第19-20页 |
| ·主要实验试剂及性质 | 第19页 |
| ·主要实验器材及仪器 | 第19页 |
| ·模板剂的去除 | 第19页 |
| ·样品表征 | 第19-20页 |
| ·单一模板剂制备 MCM-48 分子筛 | 第20-22页 |
| ·MCM-48 分子筛的合成 | 第20页 |
| ·分子筛的表征结果与讨论 | 第20-22页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第20-21页 |
| ·扫描电镜表征（SEM） | 第21-22页 |
| ·加入无机盐的方法制备 MCM-48 分子筛 | 第22-25页 |
| ·加入无机盐分子筛的合成 | 第22页 |
| ·分子筛的表征结果与讨论 | 第22-25页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第22-23页 |
| ·扫描电镜表征（SEM） | 第23-24页 |
| ·水热稳定性测试 | 第24-25页 |
| ·以 P123 和 CTAB 混合模板剂制备 MCM-48 分子筛 | 第25-27页 |
| ·混合模板剂合成分子筛 | 第25页 |
| ·混合模板剂分子筛的表征结果与讨论 | 第25-27页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第25-26页 |
| ·扫描电镜表征（SEM） | 第26-27页 |
| ·以 APTES 和 TEOS 为硅源合成介孔材料 | 第27-32页 |
| ·氨基化介孔材料的制备 | 第27页 |
| ·氨基化介孔材料表征和结果分析 | 第27-32页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第28-29页 |
| ·扫描电镜表征（SEM） | 第29-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 3 MCM-48 膜的制备 | 第33-58页 |
| ·实验部分 | 第33-34页 |
| ·主要实验试剂和实验仪器 | 第33页 |
| ·实验中载体管的预处理 | 第33页 |
| ·膜的模板剂的去除 | 第33页 |
| ·膜的表征 | 第33-34页 |
| ·MCM-48 膜的原位合成 | 第34-41页 |
| ·膜的合成 | 第34-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-41页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第36-37页 |
| ·扫描电镜表征（SEM） | 第37-41页 |
| ·硅溶胶预堵孔制备 MCM-48 膜 | 第41-46页 |
| ·载体的预堵孔 | 第41-42页 |
| ·膜的合成 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-46页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第43页 |
| ·扫描电镜表征（SEM） | 第43-45页 |
| ·膜的渗透性能 | 第45-46页 |
| ·二次生长法制备 MCM-48 膜 | 第46-52页 |
| ·晶种层的制备 | 第46页 |
| ·膜的制备 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-52页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第47-48页 |
| ·扫描电镜表征（SEM） | 第48-51页 |
| ·膜的渗透性能 | 第51-52页 |
| ·反扩散晶种法制备 MCM-48 膜 | 第52-56页 |
| ·晶种层的制备 | 第52-53页 |
| ·膜的合成 | 第53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-56页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第53-54页 |
| ·扫描电镜图（SEM） | 第54-56页 |
| ·膜的渗透性能 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |