摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-18页 |
·电致化学发光概述 | 第9-13页 |
·电致化学发光简介 | 第9-12页 |
·金属配合物电致化学发光研究进展 | 第12页 |
·电致化学发光的固定化研究 | 第12-13页 |
·分子印迹概述 | 第13-16页 |
·分子印迹技术的研究进展 | 第13-14页 |
·分子印迹技术的研究特点 | 第14-15页 |
·分子印迹电化学传感器的制备方法 | 第15-16页 |
·分子印迹技术的现存问题与展望 | 第16页 |
·本课题的研究意义及主要工作 | 第16-18页 |
第二章 电化学溶胶-凝胶分子印迹传感器的制作及表征 | 第18-29页 |
·引言 | 第18页 |
·实验部分 | 第18-21页 |
·试剂与仪器 | 第18-20页 |
·溶胶-凝胶电化学传感器的制备 | 第20页 |
·结构与形貌表征 | 第20页 |
·电化学循环伏安测定 | 第20页 |
·样品处理 | 第20-21页 |
·结果与讨论 | 第21-28页 |
·溶胶-凝胶制备条件的优化 | 第21页 |
·印迹聚合物的结构表征 | 第21-23页 |
·印迹电极的循环伏安表征 | 第23-24页 |
·模板分子的去除 | 第24-25页 |
·传感器吸附性能 | 第25页 |
·传感器对L-色氨酸的选择性 | 第25-26页 |
·线性、检测限和重现性 | 第26-27页 |
·样品测定 | 第27-28页 |
·本章小结 | 第28-29页 |
第三章 电致化学发光与分子印迹技术的联用研究与应用 | 第29-45页 |
·引言 | 第29-30页 |
·实验部分 | 第30-31页 |
·实验试剂 | 第30页 |
·仪器与设备 | 第30页 |
·MWNTs 的酸化处理 | 第30页 |
·溶剂中(pq)_2Ir(N-phMA)的循环伏安扫描 | 第30页 |
·MWNTs/PVA/铱配合物修饰电极的制备 | 第30-31页 |
·样品处理 | 第31页 |
·结果与讨论 | 第31-44页 |
·酸化处理对MWNTs 的影响 | 第31-32页 |
·溶剂中(pq)_2Ir(N-phMA)的电化学性质 | 第32-33页 |
·电极种类的选择 | 第33页 |
·修饰剂的优化 | 第33-37页 |
·MIT-ECL 电极的电致化学发光表征 | 第37-38页 |
·传感器对模板分子L-色氨酸的富集 | 第38页 |
·酸度的影响 | 第38-39页 |
·传感器对模板分子的选择性识别 | 第39-40页 |
·模板分子的洗脱 | 第40-41页 |
·线性、检测限和重现性 | 第41-42页 |
·样品测定 | 第42-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第四章 离子液体在电致化学发光电极中的应用初探 | 第45-49页 |
·仪器与试剂 | 第45页 |
·实验部分 | 第45页 |
·结果与讨论 | 第45-48页 |
·溶剂的选择 | 第45-46页 |
·配合物浓度的优化 | 第46页 |
·离子液体用量的优化 | 第46-47页 |
·酸度的影响 | 第47-48页 |
·修饰剂用量的优化 | 第48页 |
·小结 | 第48-49页 |
第五章 工作总结与展望 | 第49-51页 |
致谢 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-60页 |
附录:作者在攻读硕士学位期间所取得的主要成果 | 第60页 |