| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 插图索引 | 第10-12页 |
| 附表索引 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-25页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·Ta-N 薄膜的研究与发展现状 | 第13-18页 |
| ·Ta-N 薄膜在电阻器中的应用和发展 | 第14-16页 |
| ·Ta-N 薄膜在扩散阻挡层中的应用和发展 | 第16-18页 |
| ·金属薄膜电学性能的研究理论 | 第18-22页 |
| ·连续金属薄膜的导电机理 | 第19-20页 |
| ·不连续金属薄膜的导电机理 | 第20-22页 |
| ·金属薄膜的扩散理论 | 第22-24页 |
| ·本文的选题依据及主要内容 | 第24-25页 |
| 第2章 Ta 系薄膜样品的制备技术及表征方法 | 第25-32页 |
| ·薄膜样品的制备技术 | 第25-27页 |
| ·Ta 系薄膜制备技术 | 第25页 |
| ·磁控溅射原理 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射系统 | 第26-27页 |
| ·Ta 系薄膜样品的表征方法 | 第27-32页 |
| ·X 射线衍射 | 第27页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| ·原子力显微镜 | 第28-29页 |
| ·RTS-8 型数字式四探针测试仪 | 第29-30页 |
| ·薄膜电学性能测试系统 | 第30-32页 |
| 第3章 Ta 电阻薄膜的结构和电学性质研究 | 第32-42页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·Ta 薄膜样品的制备 | 第32-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-40页 |
| ·溅射功率对 Ta 薄膜表面形貌和电学性能的影响 | 第33-35页 |
| ·溅射时间及热处理过程对 Ta 薄膜电学性能的影响 | 第35-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 Ta-N 薄膜制备及电学性能研究 | 第42-67页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验方法与过程 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-66页 |
| ·基底材料和氮分压对 Ta-N 薄膜微结构和电学性能的影响 | 第43-48页 |
| ·工作气压对 Ta-N 薄膜微结构和电学性能的影响 | 第48-53页 |
| ·溅射功率对 Ta-N 薄膜微结构和电学性能的影响 | 第53-56页 |
| ·基底温度对 Ta-N 薄膜微结构和电学性能的影响 | 第56-60页 |
| ·热处理温度对薄膜微结构和电学性能的影响 | 第60-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第5章 磁控溅射的 Ta-N 薄膜的扩散阻挡性能研究 | 第67-80页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·试验方法与过程 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-79页 |
| ·不同 N2/Ar 流量比制备的 Ta-N 薄膜扩散阻挡性能研究 | 第68-72页 |
| ·Ta/TaN 薄膜的扩散阻挡性能研究 | 第72-76页 |
| ·Ti/TaN 薄膜的扩散阻挡性能研究 | 第76-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 总结与展望 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-89页 |
| 附录 A（攻读硕士学位期间发表的学术论文情况） | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
