| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·超导体简介 | 第10-11页 |
| ·高温超导体的发展 | 第11-13页 |
| ·Bi系氧化物超导薄膜研究 | 第13-20页 |
| ·Bi系氧化物薄膜的特点和结构特征 | 第13-16页 |
| ·Bi系氧化物薄膜的制备工艺 | 第16-17页 |
| ·Bi系氧化物薄膜的基片选择 | 第17-18页 |
| ·Bi系氧化物薄膜的研究现状 | 第18-20页 |
| ·本文的研究意义及内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验原理与表征手段 | 第21-29页 |
| ·分子束外延法 | 第21-23页 |
| ·分子束外延装置 | 第21-23页 |
| ·分子束外延方法的特点 | 第23页 |
| ·X射线衍射分析 | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜和原子力显微镜 | 第24-27页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜 | 第25-27页 |
| ·X射线能谱仪 | 第27页 |
| ·四引线法测量电学性能 | 第27-28页 |
| ·真空退火炉 | 第28-29页 |
| 第3章 实验准备与样品制备 | 第29-40页 |
| ·臭氧浓缩 | 第29-32页 |
| ·臭氧浓缩装置的组成 | 第29-31页 |
| ·硅胶温度对臭氧浓度的影响 | 第31-32页 |
| ·金属源单质锭 | 第32-34页 |
| ·Sr和Ca单质锭的烧结 | 第32-33页 |
| ·Bi和Cu单质锭的烧结 | 第33-34页 |
| ·蒸发速率 | 第34-38页 |
| ·Bi和Cu蒸发速率的测量 | 第35-37页 |
| ·Sr和Ca蒸发速率的测量 | 第37-38页 |
| ·样品制备 | 第38-40页 |
| 第4章 Bi系氧化物超导薄膜的制备、结构与性能分析 | 第40-58页 |
| ·Bi-2201薄膜的制备及结构分析 | 第40-45页 |
| ·Bi-2201薄膜的制备 | 第40页 |
| ·Bi_2Sr_2CuO_(6+δ)薄膜的结构和表面形貌分析 | 第40-42页 |
| ·Sr位掺Ca的Bi-2201薄膜的结构及性能分析 | 第42-45页 |
| ·Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)薄膜的制备、结构及性能研究 | 第45-58页 |
| ·Bi-2212相薄膜的制备 | 第45页 |
| ·Bi-2212薄膜成相的主要参数研究 | 第45-52页 |
| ·Bi-2212薄膜结晶性改善及物理性能研究 | 第52-58页 |
| 第5章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
