| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-19页 |
| ·绪论 | 第7页 |
| ·多孔硅的制备 | 第7-10页 |
| ·电化学腐蚀法（即阳极腐蚀法 Anodic etching） | 第8页 |
| ·光化学腐蚀法 | 第8页 |
| ·化学腐蚀法 | 第8-9页 |
| ·火花腐蚀技术(Spark-erosion technique) | 第9页 |
| ·水热腐蚀技术(Hydro-thermal etching) | 第9-10页 |
| ·多孔硅的后处理 | 第10-11页 |
| ·氧化处理 | 第10页 |
| ·钝化处理 | 第10-11页 |
| ·超临界干燥处理 | 第11页 |
| ·多孔硅的微结构特征及其化学组成 | 第11-12页 |
| ·多孔硅的应用 | 第12-19页 |
| ·绝缘材料 | 第12-13页 |
| ·敏感元件及传感器 | 第13-14页 |
| ·照明材料及太阳能电池 | 第14-15页 |
| ·光电器件 | 第15-17页 |
| ·合成其它材料的模板 | 第17页 |
| ·在其他方面的应用 | 第17-19页 |
| 第二章 理论基础 | 第19-23页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第19-20页 |
| ·Beale 耗尽模型 | 第19页 |
| ·扩散限制模型 | 第19-20页 |
| ·量子限制模型 | 第20页 |
| ·多孔硅的发光机理 | 第20-23页 |
| ·量子限制效应（QCE） | 第20-21页 |
| ·硅本征表面态模型 | 第21-22页 |
| ·量子限制/发光中心模型 | 第22-23页 |
| 第三章 扩散 Zn~(2+)多孔硅的光致发光性能 | 第23-28页 |
| ·样品的制备 | 第23-24页 |
| ·测试结果及分析 | 第24-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 第四章 溅射有金属锡的多孔硅光致发光 | 第28-32页 |
| ·样品的制备 | 第28页 |
| ·测试结果及分析 | 第28-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第五章 嵌入聚合物聚苯胺（PANI）的多孔硅的光致发光性能 | 第32-35页 |
| ·样品的制备 | 第32-33页 |
| ·测试结果及分析 | 第33-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第六章 总结与展望 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-43页 |
| 硕士期间发表论文 | 第43-44页 |
| 致 谢 | 第44-45页 |
