摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
1 引言 | 第8-22页 |
·薄膜及磁性薄膜材料概述 | 第8-9页 |
·磁记录的记录方式和存在的问题及解决办法 | 第9-11页 |
·磁晶各向异性 | 第11-13页 |
·形状各向异性 | 第13-14页 |
·磁记录介质的重要参量 | 第14-20页 |
·矫顽力 | 第14-15页 |
·剩余磁化强度和饱和磁化强度 | 第15页 |
·磁滞回线的方形度 | 第15-17页 |
·磁相互作用 | 第17-18页 |
·磁激活体积 | 第18-19页 |
·颗粒临界尺寸 | 第19-20页 |
·研究工作目的及内容 | 第20-22页 |
2 实验和测试 | 第22-38页 |
·薄膜的制备 | 第22-30页 |
·薄膜的制备工艺 | 第22-26页 |
·真空蒸镀法 | 第22-23页 |
·溅射法 | 第23-25页 |
·电镀法 | 第25-26页 |
·样品的制备过程 | 第26-29页 |
·基片清洗 | 第26页 |
·磁控溅射 | 第26-28页 |
·薄膜样品的热处理 | 第28-29页 |
·薄膜生长 | 第29页 |
·薄膜厚度的表征 | 第29-30页 |
·薄膜的测试及原理 | 第30-38页 |
·磁特性的测量 | 第30-32页 |
·晶体结构的测量 | 第32-33页 |
·表面形貌及磁结构的测量 | 第33-35页 |
·测试 | 第35-38页 |
3 (Ag)/Co/Ag 薄膜微结构与磁特性的研究 | 第38-58页 |
·不同的衬底层厚度对Ag/Co/Ag 薄膜微结构与磁特性的影响 | 第38-42页 |
·样品的制备 | 第38页 |
·实验结果和讨论 | 第38-41页 |
·小结 | 第41-42页 |
·不同厚度的Co 磁性层对Ag(4nm)/Co(t)/Ag(4nm)薄膜微结构与磁特性的影响 | 第42-46页 |
·样品的制备 | 第42页 |
·实验结果和讨论 | 第42-45页 |
·小结 | 第45-46页 |
·退火温度对Ag(4nm)/Co(15nm)/Ag(4nm)薄膜微结构与磁特性的影响 | 第46-51页 |
·样品的制备 | 第46页 |
·结果和讨论 | 第46-50页 |
·小结 | 第50-51页 |
·退火温度对Co(15nm)的影响 | 第51-58页 |
·样品的制备 | 第51页 |
·结果和讨论 | 第51-56页 |
·小结 | 第56-58页 |
4 结论 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
攻读学位期间取得的科研成果 | 第68页 |