| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·结晶器概论 | 第10-11页 |
| ·结晶器镀层研究现状及分析 | 第11-17页 |
| ·氨基磺酸体系电镀 | 第11-13页 |
| ·纯镍镀层 | 第13-14页 |
| ·镍-铁合金镀层 | 第14-16页 |
| ·钴-镍合金镀层 | 第16-17页 |
| ·电场的仿真与计算 | 第17-20页 |
| ·数值模拟技术的工程应用 | 第17-18页 |
| ·有限单元法 | 第18-19页 |
| ·ANSYS 软件概述 | 第19页 |
| ·ANSYS 电场分析 | 第19-20页 |
| ·本论文的研究目的及课题来源 | 第20-21页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第21-25页 |
| ·实验药品及仪器 | 第21-22页 |
| ·工艺流程 | 第22页 |
| ·ANSYS 计算环境及结果验证 | 第22-23页 |
| ·ANSYS 计算环境 | 第22页 |
| ·ANSYS 计算结果实验验证方法 | 第22-23页 |
| ·镀层及镀液性能测试 | 第23-25页 |
| ·镀层表面微观形貌测试 | 第23页 |
| ·镀层硬度测试 | 第23页 |
| ·镀层表面粗糙度测试 | 第23页 |
| ·镀层成分及结构的测定 | 第23-24页 |
| ·镀层厚度分布均匀性测试 | 第24页 |
| ·镀液电流效率的测定 | 第24-25页 |
| 第3章 电流密度对镀层性能的影响研究 | 第25-44页 |
| ·电流密度对Ni 镀层性能的影响 | 第25-29页 |
| ·电流密度对Ni 镀层硬度的影响 | 第25-26页 |
| ·电流密度对Ni 镀层表面形貌的影响 | 第26-27页 |
| ·电流密度对Ni 镀层表面粗糙度的影响 | 第27-28页 |
| ·电流密度对Ni 镀层表面厚度均匀性的影响 | 第28页 |
| ·电流密度对镀Ni 液电流效率的影响 | 第28-29页 |
| ·电流密度对Ni-Fe 镀层性能的影响 | 第29-33页 |
| ·电流密度对Ni-Fe 镀层硬度的影响 | 第29-30页 |
| ·电流密度对Ni-Fe 镀层表面形貌的影响 | 第30-31页 |
| ·电流密度对Ni-Fe 镀层表面粗糙度的影响 | 第31-32页 |
| ·电流密度对Ni-Fe 镀层表面厚度均匀性的影响 | 第32页 |
| ·电流密度对Ni-Fe 镀液电流效率的影响 | 第32-33页 |
| ·电流密度对Co-Ni 镀层性能的影响 | 第33-36页 |
| ·电流密度对Co-Ni 镀层硬度的影响 | 第33页 |
| ·电流密度对Co-Ni 镀层表面形貌的影响 | 第33-35页 |
| ·电流密度对Co-Ni 镀层表面粗糙度的影响 | 第35页 |
| ·电流密度对Co-Ni 镀层表面厚度均匀性的影响 | 第35-36页 |
| ·电流密度对Co-Ni 镀液电流效率的影响 | 第36页 |
| ·电流密度对合金镀层成分的影响 | 第36-39页 |
| ·Ni-Fe 镀层 | 第37-38页 |
| ·Co-Ni 镀层 | 第38-39页 |
| ·电流密度对镀层晶体学参数的影响 | 第39-42页 |
| ·Ni 镀层 | 第39页 |
| ·Ni-Fe 镀层 | 第39-40页 |
| ·Co-Ni 镀层 | 第40-41页 |
| ·3 种镀层总体比较 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 电场对镀层性能的影响研究 | 第44-60页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·阴阳极面积比对镀层性能的影响 | 第44-49页 |
| ·阴阳极面积比对镀层硬度的影响 | 第44-46页 |
| ·阴阳极面积比对镀层表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| ·阴阳极面积比对镀层表面粗糙度的影响 | 第47-48页 |
| ·阴阳极面积比对镀层表面厚度均匀性的影响 | 第48-49页 |
| ·阴阳极间距及辅助阴极对镀层厚度分布性能的影响 | 第49-54页 |
| ·阴阳极间距对镀层厚度分布性能的影响 | 第49-50页 |
| ·辅助阴极CAD 效果图 | 第50-51页 |
| ·辅助阴极对镀层厚度均匀性的影响 | 第51-54页 |
| ·镀液搅拌强度对镀层性能的影响 | 第54-59页 |
| ·镀液搅拌强度对镀层硬度的影响 | 第55-56页 |
| ·镀液搅拌强度对镀层表面形貌的影响 | 第56-57页 |
| ·镀液搅拌强度对镀层表面粗糙度的影响 | 第57-58页 |
| ·镀液搅拌强度对合金镀层成分的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 基于ANSYS 有限元方法的电镀槽中电场分布的研究 | 第60-75页 |
| ·ANSYS 的计算过程及实验室镀槽研究与结果验证 | 第60-68页 |
| ·导电性辅助阴极的作用 | 第60-62页 |
| ·阴阳极面积比的影响 | 第62-64页 |
| ·导电性辅助阴极与阴极间距的影响研究 | 第64-67页 |
| ·阴极尖端圆滑化的作用 | 第67-68页 |
| ·宝钢镀槽研究 | 第68-73页 |
| ·基础有限元模型及计算过程 | 第68-70页 |
| ·宝钢镀槽体系的改进 | 第70-73页 |
| ·本章小结及展望 | 第73-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82页 |