| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-16页 |
| ·DBD 放电原理及物理过程 | 第9-11页 |
| ·DBD 技术的实验研究及应用 | 第11-13页 |
| ·DBD 合成功能材料的优点 | 第13-14页 |
| ·本文的选题研究背景 | 第14页 |
| 参考文献 | 第14-16页 |
| 第二章 高气压 DBD 实验装置和基本物理与化学过程研究 | 第16-28页 |
| ·高气压 DBD 等离子体沉积的特点 | 第16页 |
| ·高气压 DBD 实验装置简述 | 第16-18页 |
| ·均匀性高气压 DBD 放电的研究 | 第18-20页 |
| ·高气压 DBD 放电物理参数的测定 | 第20-22页 |
| ·高气压 DBD 放电过程中化学反应的分析 | 第22-25页 |
| 参考文献 | 第25-28页 |
| 第三章 高气压下 DBD 等离子体合成 DLC 薄膜 | 第28-44页 |
| ·研究背景和相关文献综述 | 第28-31页 |
| ·DLC 薄膜的制备工艺研究 | 第31-33页 |
| ·DLC 薄膜的结构和成分分析 | 第33-37页 |
| ·DLC 薄膜的表面性能分析 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| ·工作展望 | 第41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
| 第四章 高气压 DBD 等离子体合成-COOH 功能薄膜 | 第44-58页 |
| ·研究背景和相关文献综述 | 第44-46页 |
| ·合成-COOH 功能膜的实验研究 | 第46-47页 |
| ·薄膜的性能分析 | 第47-52页 |
| ·薄膜的厚度测试 | 第52-53页 |
| ·薄膜的稳定性实验及结果分析 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| ·工作展望 | 第55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 第五章 高气压下 DBD 等离子体合成碳纳米管 | 第58-83页 |
| ·研究背景和相关文献综述 | 第58-61页 |
| ·催化剂的制备和预处理 | 第61-64页 |
| ·碳纳米管的生长工艺研究 | 第64-74页 |
| ·碳纳米管的性能检测和分析 | 第74-77页 |
| ·促进碳纳米管生长的机理探讨 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| ·工作展望 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-83页 |
| 第六章 总结和展望 | 第83-87页 |
| ·本文主要研究成果与结论 | 第83-85页 |
| ·进一步工作的展望 | 第85-86页 |
| ·本课题的创新之处 | 第86-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 独创性声明 | 第90页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第90页 |
