第一章 绪论 | 第1-18页 |
·面发射激光器概述 | 第7-9页 |
·垂直腔面发射激光器的结构和特点 | 第9-10页 |
·垂直腔面发射激光器(VCSEl)的结构 | 第9页 |
·垂直腔面发射激光器(VCSELs)的特点 | 第9-10页 |
·垂直腔面发射激光列阵 | 第10-13页 |
·多波长列阵 | 第11-12页 |
·高速多波长列阵 | 第12页 |
·长波长VCSEL 列阵 | 第12-13页 |
·可见光VCSEL 列阵 | 第13页 |
·锁相VCSEL 列阵 | 第13页 |
·垂直腔面发射激光器(VCSEL)的进展 | 第13-14页 |
·垂直腔面发射激光器(VCSEL)的应用 | 第14-17页 |
·光通信 | 第15-16页 |
·光互联 | 第16页 |
·计算机与光信息处理方面的应用 | 第16页 |
·其它方面的应用 | 第16-17页 |
·本论文的主要工作 | 第17-18页 |
第二章 980nm 垂直腔面发射激光器特性分析及优化设计 | 第18-34页 |
·阈值特性分析 | 第18-21页 |
·微分量子效率与输出特性 | 第21-23页 |
·微分量子效率 | 第21页 |
·输出特性 | 第21-23页 |
·模式与光束 | 第23-24页 |
·纵模特性 | 第23页 |
·横模特性 | 第23页 |
·光束特性 | 第23页 |
·偏振特性 | 第23-24页 |
·热特性 | 第24-27页 |
·电流传播模型 | 第24-26页 |
·热分布 | 第26-27页 |
·反射镜的设计 | 第27-31页 |
·反射率的计算 | 第27页 |
·反射镜的带宽和有效腔长 | 第27-28页 |
·谐振模式 | 第28-30页 |
·反射镜的优化设计 | 第30-31页 |
·有源区参数的优化设计 | 第31-33页 |
·小结 | 第33-34页 |
第三章 VCSEL 制备工艺及制作 | 第34-42页 |
·湿法腐蚀工艺 | 第34-35页 |
·AlAs 氧化工艺 | 第35-37页 |
·AlAs 氧化工艺的原理 | 第35-36页 |
·AlAs 氧化工艺的实验与优化 | 第36-37页 |
·低欧姆接触电阻工艺 | 第37-39页 |
·n 型GaAs 的欧姆接触 | 第38页 |
·p 型GaAs 的欧姆接触 | 第38页 |
·优化的合金工艺条件 | 第38-39页 |
·垂直腔面发射激光器的制作 | 第39-41页 |
·外延片的生长技术 | 第39页 |
·外延片的结构 | 第39-40页 |
·器件的结构 | 第40-41页 |
·小结 | 第41-42页 |
第四章 980nm 垂直腔面发射激光器实验结果及分析 | 第42-48页 |
·单管器件的实验结果及分析 | 第42-45页 |
·输出特性及热效应 | 第42-44页 |
·光束特性 | 第44-45页 |
·列阵器件的实验结果及分析 | 第45-47页 |
·结论 | 第47-48页 |
第五章 总结 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-51页 |
硕士期间发表的论文 | 第51-52页 |
致谢 | 第52-53页 |
硕士学位论文原创性声明 | 第53页 |