| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 图、表清单 | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·电沉积技术原理及其应用研究 | 第10-13页 |
| ·电沉积的基本原理 | 第10-12页 |
| ·电沉积技术的工艺分类 | 第12-13页 |
| ·复合电沉积技术的应用与研究现状 | 第13-16页 |
| ·复合电沉积工艺的产生和发展 | 第13-14页 |
| ·复合电沉积技术的应用 | 第14-15页 |
| ·纳米复合电沉积的研究现状 | 第15-16页 |
| ·喷射电沉积的研究现状 | 第16-17页 |
| ·喷射电沉积的原理及特点 | 第16-17页 |
| ·喷射电沉积的历史与现状 | 第17页 |
| ·激光辐照对电沉积层与材料基体的强化作用 | 第17-18页 |
| ·本文研究的目的及意义 | 第18-19页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 喷射电沉积的相关理论基础 | 第20-30页 |
| ·电化学沉积的基本过程与相关理论 | 第20-27页 |
| ·电化学沉积的基本过程 | 第20-21页 |
| ·阴极极化、过电位与扩散层 | 第21-23页 |
| ·阴极极限电流密度 | 第23-24页 |
| ·金属电结晶过程 | 第24-26页 |
| ·阴极过电位与电结晶生长形态 | 第26-27页 |
| ·喷射电沉积的流场与电场分布特点 | 第27-28页 |
| ·喷射电沉积的特点 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 Cu-纳米Al_2O_3复合电沉积的试验方法 | 第30-36页 |
| ·喷射电沉积系统的结构组成与特点 | 第30-31页 |
| ·喷射电沉积快速成型现场控制子系统 | 第31-32页 |
| ·试验的主要材料与内容 | 第32-35页 |
| ·试样材料的制备 | 第32页 |
| ·电沉积液的选择及成分 | 第32-33页 |
| ·试验内容的选择 | 第33-34页 |
| ·试验方法与过程 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 喷射电沉积铜铸层的表面生长形貌研究 | 第36-44页 |
| ·电流密度对铸层表面形貌的影响 | 第36-38页 |
| ·层厚增加对沉积层表面形貌的影响 | 第38-41页 |
| ·纳米Al_2O_3颗粒对沉积层表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小节 | 第42-44页 |
| 第五章 激光热处理 | 第44-51页 |
| ·激光热处理的设备 | 第44-45页 |
| ·实验设备的机床概况 | 第44-45页 |
| ·实验设备的数控系统 | 第45页 |
| ·激光处理的预备工序及操作规范 | 第45-46页 |
| ·激光热处理的传热过程分析 | 第46-50页 |
| 本章小节 | 第50-51页 |
| 第六章 工艺条件对激光处理下纳米复合沉积层力学性能影响 | 第51-57页 |
| ·激光辐照对纳米复合沉积层显微硬度的影响 | 第51-52页 |
| ·激光辐照对纳米复合沉积层抗拉强度的影响 | 第52-56页 |
| ·本章小节 | 第56-57页 |
| 第七章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·论文总结 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第63页 |