| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-11页 |
| ·问题的提出及研究意义 | 第8-9页 |
| ·问题的提出 | 第8页 |
| ·研究的意义 | 第8-9页 |
| ·本文研究的目的和研究内容 | 第9-11页 |
| ·本文研究的目的 | 第9页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第9-11页 |
| 2 ICT技术发展历史概况及应用 | 第11-18页 |
| ·ICT的发展历史 | 第11页 |
| ·ICT 技术在无损检测中的应用 | 第11-13页 |
| ·ICT的局限性及主要研究课题 | 第13-16页 |
| ·ICT的局限性 | 第13-15页 |
| ·ICT主要研究课题 | 第15-16页 |
| ·国内外ICT发展现状与展望 | 第16-18页 |
| ·国外ICT发展情况 | 第16-17页 |
| ·国内ICT发展现状与展望 | 第17-18页 |
| 3 ICT的基本原理和基本性能 | 第18-30页 |
| ·X射线与物质的相互作用及衰减规律 | 第18-25页 |
| ·ICT基本原理 | 第25-27页 |
| ·ICT基本性能 | 第27-30页 |
| 4 ICT系统的基本结构及分类 | 第30-37页 |
| ·ICT的基本结构 | 第30-33页 |
| ·ICT系统的组成结构 | 第30-31页 |
| ·ICT系统配置介绍 | 第31-33页 |
| ·ICT的分类 | 第33-37页 |
| 5 ICT图像重建原理及图象质量性能指标 | 第37-46页 |
| ·图象重建原理 | 第37-43页 |
| ·图象重建的数学理论 | 第37-38页 |
| ·转积反投影法 | 第38-43页 |
| ·图象质量性能指标 | 第43-46页 |
| 6 连续谱X射线在ICT中的能谱硬化修正模型 | 第46-52页 |
| ·能谱硬化修正实验研究 | 第46-47页 |
| ·能谱硬化修正分析 | 第47-48页 |
| ·能谱硬化修正模型 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 7 X-ICT中连续谱服从Gauss分布的硬化修正项计算 | 第52-56页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·Gauss分布的定义 | 第52-53页 |
| ·X射线能谱服从Gauss分布的硬化修正计算 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 8 X射线ICT中Compton散射效应的影响与散射修正 | 第56-63页 |
| ·散射修正公式推导 | 第56-59页 |
| ·圆型截面工件积分限 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-63页 |
| 9 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·主要结论 | 第63-64页 |
| ·后续研究工作的展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 附录 | 第68-69页 |