| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-4页 |
| 目录 | 第4-6页 |
| 1 绪论 | 第6-15页 |
| 1．1 研究背景 | 第6-8页 |
| 1．2 光学薄膜的种类 | 第8页 |
| 1．3 光学薄膜工艺技术发展历程 | 第8-9页 |
| 1．4 光学薄膜制备技术 | 第9-11页 |
| 1．5 本领域国内外情况对比分析 | 第11-13页 |
| 1．5．1 本领域国外的装备与先进制造工艺技术发展现状与趋势 | 第11-12页 |
| 1．5．2 本领域国内的装备与先进制造工艺技术发展现状与趋势 | 第12-13页 |
| 1．6 本文主要工作 | 第13-15页 |
| 2 薄膜的基本理论 | 第15-39页 |
| 2．1 薄膜的干涉 | 第15-19页 |
| 2．2 薄膜反射率的计算 | 第19-32页 |
| 2．2．1 单一界面的反射率 | 第19-25页 |
| 2．2．2 单层薄膜的反射率 | 第25-27页 |
| 2．2．3 多层膜系的反射率 | 第27-29页 |
| 2．2．4 周期性多层膜的反射率 | 第29-31页 |
| 2．2．5 用矢量法计算反射率 | 第31-32页 |
| 2．3 减反射膜 | 第32-33页 |
| 2．3．1 单层减反射膜 | 第32-33页 |
| 2．3．2 两层减反射膜 | 第33页 |
| 2．3．3 多层减反射膜 | 第33页 |
| 2．4 反射率曲线的包络 | 第33-36页 |
| 2．5 分析膜层的形成过程 | 第36-39页 |
| 3 超宽带双波段增透膜膜系设计 | 第39-45页 |
| 3．1 性能指标要求 | 第39页 |
| 3．2 膜料的选择 | 第39-42页 |
| 3．3 膜系设计 | 第42-45页 |
| 3．3．1 材料实际参数的测定 | 第42-43页 |
| 3．3．2 膜系设计结果 | 第43-45页 |
| 4 超宽带双波段增透膜的镀制 | 第45-56页 |
| 4．1 真空镀膜机原理及实验装置 | 第45-48页 |
| 4．1．1 电子束加热蒸发 | 第46-47页 |
| 4．1．2 膜厚监控原理 | 第47-48页 |
| 4．2 待镀件的镀前处理 | 第48-49页 |
| 4．3 工艺过程 | 第49-53页 |
| 4．4 镀出的膜层测试结果 | 第53-56页 |
| 5 结果分析 | 第56-60页 |
| 5．1 误差来源 | 第56-57页 |
| 5．2 误差分析 | 第57-60页 |
| 回顾与展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |