| 1 绪论 | 第1-20页 |
| ·氮化硅陶瓷材料 | 第8-9页 |
| ·氮化硅陶瓷的结构和性能 | 第8页 |
| ·氮化硅陶瓷的制备工艺 | 第8-9页 |
| ·氮化硅陶瓷的高温氧化特性 | 第9-14页 |
| ·Si_3N_4氧化的热力学分析 | 第9-12页 |
| ·Si_3N_4氧化的动力学分析 | 第12-14页 |
| ·Si_3N_4氧化的抛物线速率计算 | 第14页 |
| ·Si_3N_4抗氧化的研究现状 | 第14-16页 |
| ·Si_3N_4陶瓷材料在工业中的应用 | 第16页 |
| ·氮化硅陶瓷研究需解决的问题 | 第16-17页 |
| ·本章小结 | 第17页 |
| 参考文献 | 第17-20页 |
| 2 实验设备与实验方法 | 第20-30页 |
| ·实验设备 | 第20-28页 |
| ·离子注入设备 | 第20-27页 |
| ·离子源 | 第20-24页 |
| ·离子束的加速器 | 第24页 |
| ·注入剂量的测量和控制 | 第24-26页 |
| ·低温吸附泵 | 第26-27页 |
| ·高温加热炉 | 第27-28页 |
| ·称重天平 | 第28页 |
| ·实验方法 | 第28页 |
| ·离子注入 | 第28页 |
| ·氧化实验 | 第28页 |
| ·实验分析方法 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 3 铝离子注入对Si_3N_4抗氧化性能的影响 | 第30-41页 |
| ·原始试样的分析 | 第30-31页 |
| ·铝离子注入深度的计算 | 第31-33页 |
| ·实验结果 | 第33-34页 |
| ·注入铝离子Si_3N_4试样的分析与讨论 | 第34-39页 |
| ·铝离子注入和未注入Si_3N_4试样氧化后表面成分的分析与讨论 | 第35-37页 |
| ·铝离子注入和未注入Si_3N_4试样氧化后形貌的分析与讨论 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 4 钇离子注入对Si_3N_4抗氧化性能的影响 | 第41-46页 |
| ·钇离子注入深度的计算 | 第41页 |
| ·实验结果 | 第41-42页 |
| ·注入钇离子的Si_3N_4试样的分析与讨论 | 第42-45页 |
| ·钇离子注入和未注入Si_3N_4试样氧化后表面相组成的分析与讨论 | 第42-44页 |
| ·钇离子注入和未注入Si_3N_4试样氧化后截面和表面形貌的分析与讨论 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 5 钇离子注入复合技术对Si_3N_4抗氧化性能的影响 | 第46-50页 |
| ·氧化预处理各阶段表面相的变化 | 第46页 |
| ·氧化实验结果 | 第46页 |
| ·氧化预处理后注入金属钇后的Si_3N_4试样的分析与讨论 | 第46-49页 |
| ·氧化预处理后注入金属钇的Si_3N_4试样表面相组成的分析与讨论 | 第46-47页 |
| ·氧化预处理后注入金属钇的Si_3N_4试样的形貌的分析与讨论 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 6 Y、Si、O化合物相变过程的初步研究 | 第50-54页 |
| ·SiO_2和Y_2O_3相变过程分析 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 7 结论 | 第54-56页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
