ZrO2薄膜生长及其工艺对微结构的影响
| 中文摘要 | 第1-3页 |
| 英文摘要 | 第3-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 1 前言 | 第7页 |
| 2 理论及表征手段 | 第7-43页 |
| 2-1 薄膜成核理论 | 第7-18页 |
| 2-1-1 热力学理论 | 第8-13页 |
| 2-1-2 原子聚集理论 | 第13-18页 |
| 2-2 薄膜的生长阶段和微观特性 | 第18-26页 |
| 2-2-1 薄膜的生长阶段 | 第18-20页 |
| 2-2-2 薄膜的微观特性 | 第20-21页 |
| 2-2-3 薄膜微观特性的描述方法 | 第21-26页 |
| 2-3 几种制备薄膜方法(PVD)的比较 | 第26-30页 |
| 2-3-1 真空蒸发镀膜法 | 第26-27页 |
| 2-3-2 溅射镀膜法 | 第27-28页 |
| 2-3-3 离子镀膜技术 | 第28-30页 |
| 2-4 激光损伤机理 | 第30-38页 |
| 2-4-1 本征吸收导致的热损伤 | 第31页 |
| 2-4-2 自聚焦效应 | 第31页 |
| 2-4-3 雪崩离化机制 | 第31-33页 |
| 2-4-4 多光子吸收电离机制 | 第33-35页 |
| 2-4-5 杂质诱导机制 | 第35-37页 |
| 2-4-6 节瘤缺陷损伤机制 | 第37-38页 |
| 2-5 表征手段 | 第38-43页 |
| 2-5-1 扫描电子显微镜 | 第38-39页 |
| 2-5-2 X射线衍射仪 | 第39-41页 |
| 2-5-3 分光光度计 | 第41页 |
| 2-5-4 表面轮廓仪 | 第41-42页 |
| 2-5-5 激光损伤阈值测量 | 第42-43页 |
| 3 论文选题意义 | 第43-48页 |
| 3-1 高阈值光学薄膜的研究概述和膜料选择 | 第43-45页 |
| 3-2 ZrO2的相结构 | 第45-46页 |
| 3-3 选题意义 | 第46-48页 |
| 4 实验 | 第48-72页 |
| 4-1 电子束蒸发镀膜设备 | 第48-52页 |
| 4-2 实验条件和结果 | 第52-72页 |
| 4-2-1 基体运动方式对薄膜微结构的影响 | 第52-56页 |
| 4-2-2 氧压条件对薄膜微结构的影响 | 第56-66页 |
| 4-2-3 基片温度对薄膜微结构的影响 | 第66-69页 |
| 4-2-4 薄膜激光损伤阈值测量 | 第69-72页 |
| 5 结论 | 第72-73页 |
| 6 对今后工作的建议 | 第73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 声明 | 第74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 附 录 | 第77-78页 |
