| 第一章 绪论 | 第1-19页 |
| 1．1 研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1．2 涂敷目标的研究概况 | 第12-16页 |
| 1．2．1 涂敷目标的电磁散射研究概况 | 第12-15页 |
| 1．2．2 涂敷目标的低RCS研究概况 | 第15-16页 |
| 1．3 论文主要研究内容及结构 | 第16-19页 |
| 1．3．1 论文的主要研究内容 | 第16-17页 |
| 1．3．2 论文的结构 | 第17-19页 |
| 第二章 谱域高阶阻抗边界条件理论 | 第19-31页 |
| 2．1 引言 | 第19-20页 |
| 2．2 任意介质涂敷导体平面高阶阻抗边界条件的谱域理论 | 第20-25页 |
| 2．2．1 单层介质涂覆平面的谱域阻抗表示 | 第20-22页 |
| 2．2．2 多层介质涂覆导体平面的谱域阻抗 | 第22-24页 |
| 2．2．3 阻抗的空域表示 | 第24-25页 |
| 2．3 任意介质涂敷柱面导体目标的谱域高阶阻抗边界条件理论 | 第25-28页 |
| 2．4 谱域阻抗边界条件的讨论 | 第28-30页 |
| 2．5 总结 | 第30-31页 |
| 第三章 各向异性介质涂敷导体平面的电磁散射 | 第31-49页 |
| 3．1 引言 | 第31页 |
| 3．2 各向异性介质涂敷导体平面的高阶张量阻抗边界条件 | 第31-39页 |
| 3．2．1 一维高阶张量阻抗边界条件 | 第32-37页 |
| 3．2．1．1 阻抗的谱域表示 | 第32-34页 |
| 3．2．1．2 阻抗的空域表示方法 | 第34-37页 |
| 3．2．1．2．1 最小二乘曲线拟合法 | 第35页 |
| 3．2．1．2．2 优化 | 第35-37页 |
| 3．2．2 二维高阶张量阻抗边界条件 | 第37-39页 |
| 3．2．2．1 二维阻抗的谱域表示 | 第37-38页 |
| 3．2．2．2 二维阻抗的空域表示 | 第38-39页 |
| 3．3 散射问题的求解 | 第39页 |
| 3．4 各向异性介质涂敷导体平面反射的数值模拟 | 第39-48页 |
| 3．4．1 退化为单层各向同性介质涂敷导体平面反射的数值模拟 | 第40-43页 |
| 3．4．2 单层各向异性介质涂敷导体平面反射的数值模拟 | 第43-45页 |
| 3．4．3 多层复合材料涂敷导体平面反射的数值模拟 | 第45-48页 |
| 3．5 总结 | 第48-49页 |
| 第四章 各向异性介质涂敷柱面导体目标的散射 | 第49-59页 |
| 4．1 引言 | 第49页 |
| 4．2 曲面涂敷目标的HOIBC | 第49-50页 |
| 4．3 平面HOTIBC转换为柱面HOTIBC | 第50-52页 |
| 4．4 介质涂敷柱面导体目标的电磁散射 | 第52-54页 |
| 4．5 各向异性介质涂敷柱面导体目标电磁散射的数值模拟 | 第54-58页 |
| 4．5．1 退化为各向同性介质涂敷 | 第54-55页 |
| 4．5．2 各向异性介质涂敷 | 第55-58页 |
| 4．6 结论 | 第58-59页 |
| 第五章 各向异性介质涂敷旋转体目标的散射 | 第59-78页 |
| 5．1 引言 | 第59-60页 |
| 5．2 问题描述 | 第60-62页 |
| 5．3 单轴各向异性介质涂敷旋转体的精确解：MoM分析 | 第62-69页 |
| 5．3．1 单轴各向异性介质涂敷旋转体结构的表面积分方程 | 第62-66页 |
| 5．3．2 散射场的计算 | 第66-67页 |
| 5．3．3 单轴各向异性介质覆盖旋转体散射的分析算例 | 第67-69页 |
| 5．4 单轴各向异性介质涂敷旋转体的高阶阻抗边界条件解 | 第69-77页 |
| 5．4．1 外区域等效 | 第69-71页 |
| 5．4．2 内区域等效 | 第71-73页 |
| 5．4．3 数值仿真 | 第73-77页 |
| 5．4．3．1 涂敷球面导体目标 | 第74-76页 |
| 5．4．3．2 涂敷锥球导体目标 | 第76-77页 |
| 5．5 结论 | 第77-78页 |
| 第六章 涂敷目标低RCS优化理论与设计 | 第78-104页 |
| 6．1 引言 | 第78-79页 |
| 6．2 遗传算法概述 | 第79-83页 |
| 6．3 涂敷目标低可探测性优化问题的一般描述 | 第83-85页 |
| 6．4 平面目标宽频带RAM的设计 | 第85-93页 |
| 6．4．1 遗传算法的表达 | 第86-87页 |
| 6．4．1．1 针对材料库的优化设计 | 第86页 |
| 6．4．1．2 针对材料参数的优化设计 | 第86-87页 |
| 6．4．2 优化设计实例 | 第87-93页 |
| 6．4．2．1 针对材料库的优化设计实例 | 第87-92页 |
| 6．4．2．2 针对材料参数的优化设计实例 | 第92-93页 |
| 6．5 球面目标宽频带RAM的设计 | 第93-100页 |
| 6．5．1 遗传算法的表示 | 第95-96页 |
| 6．5．2 优化设计实例 | 第96-100页 |
| 6．6 半球形目标的RAM优化设计 | 第100-103页 |
| 6．6．1 优化目标原形 | 第100-101页 |
| 6．6．2 优化设计实例 | 第101-103页 |
| 6．7 结论 | 第103-104页 |
| 第七章 全文总结 | 第104-106页 |
| 附录5．1： 并矢F（r，r′）的有关特性 | 第106-107页 |
| 附录5．2： （5．24）、（5．25）式的具体表达式 | 第107-111页 |
| 附录5．3： （5．26）的具体表达式 | 第111-112页 |
| 附录5．4： （5．38）式中[P_1]～[P_8]的具体表达式 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-122页 |
| 致谢 | 第122-123页 |
| 攻读博士学位期间参加的科研项目和已发表的论文 | 第123-124页 |
