C（膜）/Si（SiO2）（纳米微粒）/C（膜）夹层膜的结构及其光致发光性质研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-8页 |
| 第一章： 绪论 | 第8-17页 |
| 1．1 研究硅基发光材料的目的和意义 | 第8-9页 |
| 1．2 研究硅基发光材料的历史回顾 | 第9-11页 |
| 1．3 硅基发光材料常见的制备方法及其比较 | 第11-12页 |
| 1．4 硅基发光材料常见的光致发光理论模型 | 第12-15页 |
| 1．5 本文的研究目的和主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章： 夹层膜的制备及其加热退火处理 | 第17-20页 |
| 2．1 夹层膜的制备 | 第17-18页 |
| 2．1．1 仪器装置及原理 | 第17-18页 |
| 2．1．2 制备过程 | 第18页 |
| 2．2 加热退火处理 | 第18-20页 |
| 2．2．1 加热退火装置 | 第19页 |
| 2．2．2 加热退火过程 | 第19-20页 |
| 第三章： 形态结构及组分分析 | 第20-30页 |
| 3．1 电镜观察与拍片 | 第20-22页 |
| 3．1．1 Si（SiO_2）微粒的TEM观察 | 第20页 |
| 3．1．2 样品表面的SEM观察 | 第20-22页 |
| 3．2 X-射线衍射测试与分析 | 第22-25页 |
| 3．3 XPS测试与分析 | 第25-27页 |
| 3．4 结论 | 第27-30页 |
| 第四章： 光致发光性质研究 | 第30-35页 |
| 4．1 PL谱测试与分析 | 第30-33页 |
| 4．1．1 PL谱理论基础 | 第30-31页 |
| 4．1．2 PL谱测试与分析 | 第31-33页 |
| 4．2 Raman谱测试探讨 | 第33-35页 |
| 4．2．1 Raman谱基本原理 | 第33-34页 |
| 4．2．2 Raman谱测试及分析 | 第34-35页 |
| 第五章 光致发光机理探讨 | 第35-39页 |
| 5．1 样品光致发光的规律 | 第35-36页 |
| 5．2 光致发光机理探讨 | 第36-38页 |
| 5．3 结论 | 第38-39页 |
| 第六章 结语 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
| 攻读硕士期间工作介况 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45页 |
