Fe基过滤金属合金薄膜的制备和高频磁性
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| ·软磁材料 | 第9页 |
| ·软磁薄膜材料 | 第9-10页 |
| ·高频磁性 | 第10-12页 |
| ·本论文研究的动机 | 第12-13页 |
| 第二章 理论基础 | 第13-27页 |
| ·斜溅射的原理 | 第13-16页 |
| ·磁各向异性模型 | 第16-24页 |
| ·磁晶各向异性 | 第17-21页 |
| ·形状磁各向异性 | 第21-23页 |
| ·应力磁各向异性 | 第23页 |
| ·感生磁各向异性 | 第23页 |
| ·交换各向异性 | 第23-24页 |
| ·关于高频磁性的理论处理 | 第24-27页 |
| ·复数磁导率 | 第24页 |
| ·磁谱的计算 | 第24-27页 |
| 第三章 样品的制备工艺与性能表征方法 | 第27-38页 |
| ·磁性薄膜的制备方法 | 第27-31页 |
| ·溅射镀膜的原理与方法 | 第27-29页 |
| ·溅射镀膜设备 | 第29-31页 |
| ·样品的制备及工艺条件 | 第31页 |
| ·薄膜性能表征方法 | 第31-38页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第31-33页 |
| ·磁光克尔效应(MOKE)系统 | 第33-35页 |
| ·矢量网络分析仪(VNA) | 第35-36页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第36-37页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第37页 |
| ·台阶仪 | 第37-38页 |
| 第四章 Fe基薄膜的结构和高频磁性 | 第38-62页 |
| ·斜溅射诱导各向异性 | 第38-55页 |
| ·FeNi薄膜 | 第38-44页 |
| ·FeCo薄膜 | 第44-46页 |
| ·FeNi-FeCo薄膜 | 第46-53页 |
| ·FeCo-SiO_2薄膜 | 第53-55页 |
| ·用激光在基片上划线诱导各向异性 | 第55-60页 |
| ·样品托旋转 | 第55-57页 |
| ·样品托不旋转 | 第57-60页 |
| ·结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 在学期间研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
