摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
第一章 综述 | 第11-24页 |
1 用聚合物薄膜法构建修饰电极的敏感膜 | 第11-13页 |
·通过聚合物成膜法 | 第11-12页 |
·通过单体成膜法 | 第12-13页 |
2 分子印迹技术构建修饰电极敏感膜 | 第13-22页 |
·分子印迹技术的原理 | 第13-15页 |
·分子印迹技术的影响因素 | 第15-18页 |
·模板分子与功能单体的结合方式 | 第15页 |
·印迹体系的组成 | 第15-17页 |
·聚合方式 | 第17-18页 |
·分子印迹电化学传感器的分类与应用 | 第18-20页 |
·分子印迹电流型电化学传感器 | 第18-19页 |
·电位型印迹电化学传感器 | 第19页 |
·电导型分子印迹电化学传感器 | 第19页 |
·电容/阻抗型分子印迹电化学传感器 | 第19-20页 |
·分子印迹电化学传感器敏感膜体系的构建方法及应用 | 第20-22页 |
·直接运用法 | 第20页 |
·电聚合法 | 第20-21页 |
·聚合物粒子镶嵌法 | 第21页 |
·溶胶-凝胶法 | 第21-22页 |
3 本论文的研究目的、意义和内容 | 第22-24页 |
第二章 鬼臼毒素分子印迹传感器的研究与应用 | 第24-34页 |
1 引言 | 第24-25页 |
2 实验部分 | 第25-26页 |
·主要仪器与试剂 | 第25页 |
·金电极的处理 | 第25页 |
·分子印迹膜修饰电极的制备 | 第25-26页 |
·检测方法 | 第26页 |
3 实验结果与讨论 | 第26-33页 |
·分子印迹膜的制备 | 第26-27页 |
·印迹电极表面印迹膜的SEM表征 | 第27-28页 |
·电极的阻抗性 | 第28-30页 |
·分子印迹电极效应 | 第30-31页 |
·印迹电极的选择性 | 第31页 |
·用印迹电极检测鬼臼毒素的工作曲线与检出限 | 第31-32页 |
·传感器的更新 | 第32页 |
·修饰电极在实际样品分析中的应用 | 第32-33页 |
4 结论 | 第33-34页 |
第三章 钯离子印迹传感器的研究与应用 | 第34-47页 |
1 引言 | 第34-35页 |
2 实验部分 | 第35-36页 |
·仪器与试剂 | 第35页 |
·钯的三元离子配合物的制备 | 第35页 |
·金电极的处理 | 第35页 |
·钯离子印迹膜修饰电极的制备 | 第35-36页 |
·实验方法 | 第36页 |
3 试验结果与讨论 | 第36-46页 |
·Pd~(2+)三元离子配合物的制备与表征 | 第36-38页 |
·金电极表面纳米金颗粒的制备 | 第38-39页 |
·纳米金修饰电极上印迹膜的制备 | 第39-40页 |
·电极的表征 | 第40-42页 |
·电极的SEM图 | 第40页 |
·电极的阻抗表征 | 第40-42页 |
·印迹电极的电化学表征 | 第42-43页 |
·印迹电极的应用 | 第43-46页 |
·工作曲线与检测限 | 第43-44页 |
·离子印迹膜的选择性 | 第44-45页 |
·电极的稳定性和再生性 | 第45页 |
·电极在实际样品分析中的应用 | 第45-46页 |
4 结论 | 第46-47页 |
第四章 铱离子印迹传感器的研究与应用 | 第47-59页 |
1 引言 | 第47-48页 |
2 实验部分 | 第48-50页 |
·仪器与试剂 | 第48页 |
·多壁碳纳米管(MWCNTs)的处理 | 第48-49页 |
·羧基化多壁碳纳米管的进一步羧基化 | 第48-49页 |
·MWCNTS-COOH的酰化 | 第49页 |
·MWCNTS—COCl的乙烯基化 | 第49页 |
·多壁碳纳米管上分子印迹聚合物(MWCNTs-MIP)的合成 | 第49-50页 |
·Ir~(4+)离子选择性电化学传感器的制备 | 第50页 |
·实验方法 | 第50页 |
3 结果与讨论 | 第50-57页 |
·处理后的多壁碳纳米管的红外表征 | 第50-51页 |
·印迹电极的制备 | 第51-52页 |
·电极的表征 | 第52-55页 |
·电极的SEM图 | 第52-53页 |
·电极的阻抗表征 | 第53-55页 |
·裸金电极与印迹电极对Ir(Ⅳ)的响应 | 第55-56页 |
·离子印迹膜对Ir~(4+)的电化学响应 | 第56-57页 |
·印迹电极的再生性和稳定性 | 第57页 |
·电极在实际样品分析中的应用 | 第57页 |
4 结论 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-68页 |
附录 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-70页 |