射频磁控溅射法MoS2薄膜制备研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·表面耐磨减摩涂层 | 第11-15页 |
| ·薄膜涂层材料 | 第12-14页 |
| ·薄膜摩擦学机理 | 第14-15页 |
| ·MoS_2薄膜的研究进展 | 第15-21页 |
| ·MoS_2的结构及性质 | 第15-17页 |
| ·MoS_2薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| ·MoS_2薄膜的研究进展 | 第19-21页 |
| ·本课题的研究目的、意义及内容 | 第21-23页 |
| 第二章 实验方法 | 第23-29页 |
| ·实验设备及材料 | 第23-25页 |
| ·磁控溅射原理 | 第23页 |
| ·多功能磁控溅射设备 | 第23-24页 |
| ·实验过程及实验材料 | 第24-25页 |
| ·薄膜的表征 | 第25-29页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜结构及组分的表征 | 第26页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第26页 |
| ·摩擦学性能测试 | 第26-27页 |
| ·薄膜结合力测试 | 第27-29页 |
| 第三章 MoS_2薄膜的制备 | 第29-32页 |
| ·基片的选取 | 第29页 |
| ·靶材的制备 | 第29-30页 |
| ·薄膜制备工艺参数 | 第30页 |
| ·薄膜的退火处理 | 第30-32页 |
| 第四章 MoS_2薄膜形貌及生长特性 | 第32-41页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第32-33页 |
| ·MoS_2薄膜的形貌分析 | 第33-39页 |
| ·溅射功率对MoS_2薄膜表面形貌的影响 | 第33-34页 |
| ·工作气压对MoS_2薄膜表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·沉积时间对MoS_2薄膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·MoS_2薄膜表面的三维形貌 | 第37-38页 |
| ·MoS_2薄膜厚度及截面形貌分析 | 第38-39页 |
| ·薄膜生长的热力学与动力学简析 | 第39-41页 |
| 第五章 MoS_2薄膜的成分及结构分析 | 第41-45页 |
| ·薄膜的成分检测 | 第41-42页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第42-45页 |
| 第六章 MoS_2薄膜的力学性能 | 第45-54页 |
| ·MoS_2薄膜的摩擦学性能检测 | 第45-51页 |
| ·薄膜的摩擦磨损试验 | 第46-48页 |
| ·摩擦磨损与薄膜结构的关系 | 第48-49页 |
| ·薄膜的摩擦磨损机理 | 第49-51页 |
| ·MoS_2薄膜的结合力检测 | 第51-54页 |
| ·划痕试验结果分析 | 第52-53页 |
| ·薄膜的附着机理 | 第53-54页 |
| 第七章 MoS_2/SiC双层薄膜的制备研究 | 第54-66页 |
| ·前言 | 第54-57页 |
| ·MoS_2/SiC双层薄膜的制备 | 第57-58页 |
| ·膜层设计 | 第57-58页 |
| ·MoS_2/SiC双层薄膜的制备工艺参数 | 第58页 |
| ·MoS_2/SiC双层薄膜的表征、测试及分析 | 第58-62页 |
| ·双层薄膜的表面形貌 | 第58-59页 |
| ·双层薄膜的侧面形貌及成分 | 第59-61页 |
| ·双层薄膜的摩擦磨损试验 | 第61页 |
| ·双层薄膜的结合力测试 | 第61-62页 |
| ·中间层对MoS_2/SiC双层薄膜结合力的影响 | 第62-66页 |
| ·中间层的作用 | 第62-63页 |
| ·中间层的选择原则 | 第63-64页 |
| ·中间层的制备 | 第64-65页 |
| ·划痕试验结果分析 | 第65-66页 |
| 第八章 结论与展望 | 第66-68页 |
| ·主要结论 | 第66-67页 |
| ·展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第74页 |
