硅表面微光栅结构的纳秒激光干涉刻蚀研究

中文摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
第一章 引言	第9-19页
·概述	第9-11页
·微光栅结构制作工艺的研究进展	第11-16页
·激光技术的发展应用与DPSSL	第11-12页
·飞秒激光制作微光栅结构的实验	第12-14页
·电子束制作微光栅结构的研究	第14-16页
·本文主要内容与成果	第16-19页
第二章 分析微光栅结构的理论基础	第19-26页
·微光学理论概述	第19-20页
·微光栅结构衍射特性的分析	第20-24页
·矢量衍射理论的分析方法	第20-21页
·RCWA 对微光栅结构衍射特性的分析	第21-24页
·基于RCWA 的软件工具	第24-26页
第三章 干涉刻蚀系统与实验方法	第26-37页
·系统组件与光路结构	第26-31页
·实验方法与具体步骤	第31-34页
·控制软件与实验材料	第31-32页
·干涉刻蚀实验步骤	第32-34页
·微光栅结构的制作方案	第34-37页
第四章 硅表面微光栅结构的刻蚀实验	第37-53页
·软件模拟	第37-42页
·双光束干涉刻蚀一维线型微光栅结构	第42-47页
·实验参数与结果讨论	第42-45页
·不同脉冲个数刻蚀得到的样品的反射率	第45-47页
·四光束干涉刻蚀二维正交微光栅结构的实验	第47-50页
·影响实验结果因素的分析	第50-53页
第五章 总结与展望	第53-56页
·结论与进一步研究方向	第53-55页
·应用前景	第55-56页
参考文献	第56-63页
攻读学位期间公开发表的论文	第63-64页
致谢	第64页