AFM动态电场诱导氧化加工及其电流检测
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·纳米科技 | 第8-11页 |
| ·纳米科技概述 | 第8-10页 |
| ·纳米科技的应用 | 第10-11页 |
| ·纳米加工技术 | 第11-13页 |
| ·本课题的研究现状 | 第13-14页 |
| ·本课题研究的主要目的和内容 | 第14-16页 |
| 第二章 AFM电场诱导氧化理论 | 第16-28页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·原子力显微镜 | 第17-20页 |
| ·基于AFM电场诱导阳极氧化理论 | 第20-26页 |
| ·针尖与样品间的局部电场 | 第20-23页 |
| ·电场诱导阳极氧化理论 | 第23-26页 |
| ·硅表面与探针间的氧化机理分析 | 第26-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 第三章 AFM纳米加工系统的构建 | 第28-48页 |
| ·DI多功能SPM的简介 | 第28-30页 |
| ·AFM纳米加工系统的设计 | 第30-38页 |
| ·加工方式的选择 | 第30-31页 |
| ·硬件设计 | 第31-35页 |
| ·软件设计 | 第35-38页 |
| ·温湿度测量系统设计 | 第38-43页 |
| ·测量要求与电路设计 | 第38-39页 |
| ·软件设计 | 第39-41页 |
| ·系统测试与分析 | 第41-43页 |
| ·探针的选择与样品的制备 | 第43-47页 |
| ·探针的选择 | 第43-44页 |
| ·样品的清洗 | 第44-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第四章 基于AFM动态电场加工及其电流检测与分析 | 第48-70页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·动态电场氧化加工的含义 | 第48页 |
| ·实验前准备 | 第48-49页 |
| ·加工信号定义 | 第49页 |
| ·氧化加工过程中的微弱电流来源分析 | 第49-52页 |
| ·探针与样品之间的隧道效应 | 第49页 |
| ·探针与样品之间的场发射效应 | 第49-52页 |
| ·调制电压下的氧化加工及其电流检测与分析 | 第52-60页 |
| ·不同频率下的氧化加工及其电流检测 | 第53-56页 |
| ·不同占空比下的氧化加工及其电流检测 | 第56-58页 |
| ·不同信号波形下的氧化加工及其电流检测 | 第58-60页 |
| ·轻敲模式下的氧化加工及其实验分析 | 第60-67页 |
| ·振动幅度对加工的影响 | 第61-64页 |
| ·氧化时间对加工的影响 | 第64-65页 |
| ·偏压幅值对加工的影响 | 第65-66页 |
| ·速度快慢对加工的影响 | 第66页 |
| ·轻敲模式下电流检测情况 | 第66-67页 |
| ·轻敲模式与接触模式下氧化加工对比 | 第67-68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 第五章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
