稀土掺杂ZnTe纳米薄膜制备及特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-14页 |
| ·研究背景及现状 | 第10-14页 |
| ·本文的研究目的及其意义 | 第14页 |
| 第二章 理论基础 | 第14-24页 |
| ·薄膜的形成机理与制备方法 | 第15-17页 |
| ·ZnTe薄膜的性质 | 第17页 |
| ·稀土元素的性质 | 第17-19页 |
| ·稀土元素的电子层结构特点和价态 | 第18页 |
| ·稀土元素的热学性质 | 第18-19页 |
| ·X射线衍射分析 | 第19-23页 |
| ·XRD物相定性分析 | 第19-20页 |
| ·物相含量计算 | 第20页 |
| ·晶粒尺寸的计算 | 第20-21页 |
| ·晶格常数的计算 | 第21-23页 |
| ·光学带隙的计算原理 | 第23页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
| ·薄膜电阻的测试原理 | 第24页 |
| 第三章 实验设计 | 第24-26页 |
| ·实验药品 | 第24页 |
| ·实验仪器 | 第24-25页 |
| ·样品制备 | 第25页 |
| ·纯ZnTe薄膜制备 | 第25页 |
| ·稀土掺杂ZnTe薄膜制备 | 第25页 |
| ·样品测试 | 第25-26页 |
| 第四章 实验结果与讨论 | 第26-49页 |
| ·纯ZnTe薄膜特性 | 第26-34页 |
| ·结构分析 | 第26-29页 |
| ·原子力表面形貌 | 第29-30页 |
| ·光学性质 | 第30-33页 |
| ·薄膜电学特性 | 第33-34页 |
| ·小结 | 第34页 |
| ·稀土镝掺杂ZnTe薄膜特性 | 第34-41页 |
| ·掺杂镝的结构分析 | 第34-37页 |
| ·掺杂镝的原子力表面形貌 | 第37-38页 |
| ·掺杂镝的光学性质 | 第38-40页 |
| ·掺杂镝的薄膜电学特性 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41页 |
| ·稀土镨掺杂ZnTe薄膜特性 | 第41-49页 |
| ·掺杂镨的结构分析 | 第41-44页 |
| ·掺杂镨薄膜的原子力表面形貌 | 第44-45页 |
| ·掺杂镨的光学性质 | 第45-48页 |
| ·掺杂镨的薄膜电学特性 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第五章 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 攻读硕士期间发表学术论文及参加科研项目 | 第56页 |
