| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| ·课题的目的和意义 | 第10-11页 |
| ·分子印迹技术 | 第11-15页 |
| ·分子印迹技术的基本原理 | 第11-13页 |
| ·分子印迹聚合物制备方法 | 第13-15页 |
| ·分子印迹技术的应用 | 第15页 |
| ·硅基分子印迹材料 | 第15-19页 |
| ·硅基分子印迹材料的制备方法 | 第15-17页 |
| ·基于硅材料的印迹聚合物的应用 | 第17-18页 |
| ·硅基分子印迹材料中的主要问题 | 第18-19页 |
| ·介孔材料的特点、合成及应用 | 第19-21页 |
| ·介孔材料的特点及类型 | 第19-20页 |
| ·介孔材料合成机理 | 第20页 |
| ·介孔材料的改性 | 第20-21页 |
| ·介孔材料的应用 | 第21页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第23-28页 |
| ·实验所用试剂及仪器 | 第23-24页 |
| ·试剂 | 第23页 |
| ·仪器设备 | 第23-24页 |
| ·分子印迹材料的合成方法 | 第24页 |
| ·样品结构测定 | 第24-26页 |
| ·X 射线衍射测试（XRD） | 第24页 |
| ·N2 吸附-脱附等温曲线 | 第24-25页 |
| ·红外光谱测试（FT-IR） | 第25页 |
| ·扫描电镜（SEM） | 第25-26页 |
| ·吸附性能测试 | 第26-28页 |
| ·吸附动力学曲线的测定及测试手段 | 第26页 |
| ·吸附等温线的测定 | 第26页 |
| ·竞争吸附实验及测试手段 | 第26-27页 |
| ·重复利用率实验 | 第27-28页 |
| 第3章 2,4-二氯苯氧乙酸分子印迹聚合物的制备及其吸附性能 | 第28-53页 |
| ·介孔HMS 基体的合成 | 第28-34页 |
| ·介孔HMS 的合成工艺 | 第28-29页 |
| ·模板剂DDA 的脱除 | 第29-30页 |
| ·孔道结构表征 | 第30-33页 |
| ·HMS 分子筛形成机理 | 第33-34页 |
| ·2,4-D 分子印迹聚合物的制备 | 第34-46页 |
| ·2,4-D 分子印迹聚合物的合成工艺 | 第34-36页 |
| ·分子印迹模板及表面活性剂模板DDA 的脱除 | 第36-38页 |
| ·功能单体和模板分子之间的作用方式 | 第38-39页 |
| ·制备条件对吸附效果的影响 | 第39-43页 |
| ·孔结构及形貌表征 | 第43-46页 |
| ·2.4-D 分子印迹聚合物吸附性能的测试 | 第46-52页 |
| ·吸附动力学 | 第46-47页 |
| ·吸附等温线 | 第47-48页 |
| ·Scatchard 方程解析 | 第48-49页 |
| ·吸附选择性 | 第49-51页 |
| ·重复利用率 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 甲基橙分子印迹聚合物的制备及其吸附性能 | 第53-64页 |
| ·甲基橙分子印迹聚合物的合成 | 第53-59页 |
| ·甲基橙分子印迹聚合物的合成工艺 | 第53-54页 |
| ·分子印迹模板及表面活性剂模板的脱除 | 第54-56页 |
| ·功能单体和模板分子之间的作用分析 | 第56-57页 |
| ·模板分子含量对吸附效果的影响 | 第57-58页 |
| ·含水量对吸附效果的影响 | 第58页 |
| ·孔结构表征 | 第58-59页 |
| ·甲基橙分子印迹聚合物吸附性能的测试 | 第59-63页 |
| ·吸附动力学 | 第59-60页 |
| ·吸附等温线 | 第60-61页 |
| ·Scatchard 方程解析 | 第61-62页 |
| ·重复利用率 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71页 |