致谢 | 第1-6页 |
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
目录 | 第9-11页 |
1 绪论 | 第11-35页 |
·电沉积非晶合金薄膜 | 第11-17页 |
·电沉积法制备非晶合金薄膜的简介 | 第11-12页 |
·电沉积非晶合金薄膜的机理 | 第12-14页 |
·本文相关的电沉积合金体系介绍 | 第14-17页 |
·Pd基非晶合金 | 第17-19页 |
·薄膜生长表面的动力学粗化 | 第19-28页 |
·分形 | 第19-20页 |
·标度 | 第20-21页 |
·沉积生长表面的Family-Vicsek标度理论 | 第21-23页 |
·普适类、分立模型和连续生长方程 | 第23-24页 |
·动力学标度理论在实际薄膜沉积研究中的应用 | 第24-28页 |
·非晶合金材料的力学行为 | 第28-34页 |
·非晶合金的变形机制 | 第28-29页 |
·非晶合金的弹性变形 | 第29-30页 |
·非晶合金的均匀塑性变形 | 第30-31页 |
·非晶合金的非均匀塑性变形 | 第31-33页 |
·室温下非晶合金均匀变形的尺寸效应 | 第33-34页 |
·本论文的立题依据和主要内容 | 第34-35页 |
2 Pd_(40)Ni_(40)P_(20)非晶合金的制备、表征及其电化学机理 | 第35-51页 |
·引言 | 第35页 |
·实验 | 第35-38页 |
·样品的制备 | 第35-37页 |
·测试和表征手段 | 第37-38页 |
·结果与讨论 | 第38-50页 |
·沉积条件对薄膜成分的影响 | 第38-40页 |
·Pd_(40)Ni_(40)P_(20)薄膜成分和结构的表征 | 第40-43页 |
·薄膜沉积过程的成分和形貌演变分析 | 第43-45页 |
·生长机理的电化学分析 | 第45-48页 |
·Pd_(40)Ni_(40)P_(20)电沉积过程的机理模型 | 第48-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
3 Pd_(40)Ni_(40)P_(20)薄膜生长的动力学粗化研究 | 第51-63页 |
·引言 | 第51页 |
·实验 | 第51-54页 |
·样品的制备 | 第51-52页 |
·测试和表征 | 第52-53页 |
·计算软件的编写及算法 | 第53-54页 |
·实验结果和讨论 | 第54-62页 |
·薄膜的截面观察和厚度表征 | 第54-55页 |
·AFM形貌分析 | 第55-57页 |
·标度分析以及标度指数 | 第57-60页 |
·极化曲线分析 | 第60-61页 |
·关于奇异标度现象的分析和讨论 | 第61-62页 |
·本章小结 | 第62-63页 |
4 二元PdP和NiP薄膜生长的动力学粗化研究 | 第63-77页 |
·引言 | 第63页 |
·实验 | 第63-65页 |
·样品的制备 | 第63页 |
·测试和表征 | 第63-65页 |
·实验结果和讨论 | 第65-76页 |
·薄膜结构、成分和厚度的表征 | 第65-66页 |
·AFM形貌分析 | 第66-68页 |
·标度分析以及标度指数 | 第68-73页 |
·关于标度行为差异的讨论 | 第73-76页 |
·本章小结 | 第76-77页 |
5 非晶合金塑性变形的尺寸效应 | 第77-101页 |
·引言 | 第77页 |
·实验 | 第77-80页 |
·样品的制备 | 第77-78页 |
·薄膜成分、非晶性质、厚度表征及形貌观察 | 第78页 |
·弯曲装置设计、加工及弯曲实验 | 第78-79页 |
·温度控制装置及实验 | 第79页 |
·薄膜硬度的测量 | 第79-80页 |
·实验结果和讨论 | 第80-100页 |
·样品的成分、结构、热学性能和厚度 | 第80-82页 |
·室温下不同厚度薄膜的变形 | 第82-85页 |
·变形过程中温度的升高 | 第85-86页 |
·变形对硬度的影响 | 第86-90页 |
·是否是弹性变形 | 第90页 |
·是否和基底脱离 | 第90-91页 |
·在低温下薄膜的变形 | 第91-97页 |
·在高温下薄膜的变形 | 第97-98页 |
·非晶合金变形模式图 | 第98页 |
·讨论 | 第98-100页 |
·本章小结 | 第100-101页 |
6 总结 | 第101-103页 |
·主要结论 | 第101-102页 |
·展望 | 第102-103页 |
参考文献 | 第103-113页 |
攻读博士学位期间发表和撰写的论文 | 第113页 |