中文摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第12-32页 |
1.1 石墨烯 | 第12页 |
1.2 石墨烯的特性 | 第12-14页 |
1.3 石墨烯的制备方法 | 第14-24页 |
1.3.1 微机械剥离法 | 第14-15页 |
1.3.2 阳极键合 | 第15页 |
1.3.3 激光剥蚀和光剥离 | 第15页 |
1.3.4 超声辅助的液相剥离 | 第15-18页 |
1.3.5 外延生长法 | 第18页 |
1.3.6 化学气相沉积(CVD) | 第18页 |
1.3.7 化学合成 | 第18-19页 |
1.3.8 切割碳纳米管法 | 第19页 |
1.3.9 氧化还原法 | 第19-24页 |
1.3.9.1 氧化石墨烯 | 第20-21页 |
1.3.9.2 热还原 | 第21-22页 |
1.3.9.3 化学还原 | 第22-23页 |
1.3.9.4 多步还原 | 第23-24页 |
1.4 石墨烯的功能化 | 第24-27页 |
1.4.1 共价键改性 | 第24-26页 |
1.4.2 非共价键改性 | 第26-27页 |
1.5 石墨烯的应用 | 第27-30页 |
1.6 表面活性剂的概述 | 第30页 |
1.7 本文的目的、意义及主要内容 | 第30-32页 |
第二章 制备条件对氧化石墨烯的影响 | 第32-50页 |
2.1 引言 | 第32页 |
2.2 实验部分 | 第32-40页 |
2.2.1 实验试剂和仪器设备 | 第32-33页 |
2.2.2 实验过程 | 第33-35页 |
2.2.2.1 氧化石墨烯的制备(常规) | 第33-34页 |
2.2.2.2 氧化石墨烯的制备(研磨) | 第34-35页 |
2.2.2.3 氧化石墨烯的制备(延长中温反应时间,去除高温反应) | 第35页 |
2.2.3 利用亚甲基蓝的吸附测定氧化石墨烯的比表面积 | 第35-39页 |
2.2.3.1 亚甲基蓝溶液标准曲线的制定 | 第35-36页 |
2.2.3.2 氧化石墨烯对亚甲基蓝的吸附时间曲线 | 第36页 |
2.2.3.3 氧化石墨烯对亚甲基蓝的吸附实验 | 第36页 |
2.2.3.4 等温吸附实验 | 第36-37页 |
2.2.3.5 亚甲基蓝的溶液吸附法测定比表面积 | 第37-39页 |
2.2.4 产物结构及性能表征 | 第39-40页 |
2.2.4.1 傅里叶变换红外光谱分析 | 第39页 |
2.2.4.2 紫外-可见光谱分析(UV-Vis) | 第39页 |
2.2.4.3 X射线衍射分析(XRD) | 第39页 |
2.2.4.4 RENISHAW激光拉曼光谱仪 | 第39页 |
2.2.4.5 光学显微镜 | 第39-40页 |
2.2.4.6 全自动比表面积测定仪(BET) | 第40页 |
2.3 结果与讨论 | 第40-48页 |
2.3.1 红外吸收光谱 | 第40-41页 |
2.3.2 紫外-可见光谱 | 第41-42页 |
2.3.3 X射线衍射分析 | 第42-43页 |
2.3.4 拉曼谱图 | 第43-44页 |
2.3.5 颜色与分散性分析 | 第44-45页 |
2.3.6 光学显微镜 | 第45页 |
2.3.7 N_2吸附测试 | 第45-46页 |
2.3.8 亚甲基蓝吸附法 | 第46-48页 |
2.4 小结 | 第48-50页 |
第三章 萘系非离子表面活性剂的制备与表征 | 第50-66页 |
3.1 前言 | 第50页 |
3.2 实验部分 | 第50-54页 |
3.2.1 实验仪器及原料 | 第50-51页 |
3.2.2 实验过程 | 第51-52页 |
3.3.2.1 对甲苯磺酸酯的合成 | 第51-52页 |
3.3.2.2 萘系非离子表面活性剂的合成 | 第52页 |
3.2.3 产物结构及性能表征 | 第52-54页 |
3.2.3.1 核磁共振仪(NMR) | 第52-53页 |
3.2.3.2 傅里叶变换红外光谱 | 第53页 |
3.2.3.3 亲水亲油平衡值(HLB)的测定 | 第53-54页 |
3.3 结果与讨论 | 第54-65页 |
3.3.1 核磁共振氢谱 | 第54-59页 |
3.3.2 红外吸收光谱 | 第59-60页 |
3.3.3 HLB值的测定 | 第60-65页 |
3.4 小结 | 第65-66页 |
第四章 萘系非离子表面活性剂对石墨烯分散性探究 | 第66-79页 |
4.1 引言 | 第66页 |
4.2 实验部分 | 第66-69页 |
4.2.1 实验试剂和仪器设备 | 第66-67页 |
4.2.2 实验过程 | 第67-68页 |
4.2.2.1 石墨烯的制备 | 第67-68页 |
4.2.3 产物结构及性能表征 | 第68-69页 |
4.2.3.1 傅里叶变换红外光谱分析 | 第68页 |
4.2.3.2 紫外-可见光谱分析(UV-Vis) | 第68页 |
4.2.3.3 荧光分光光度计 | 第68-69页 |
4.2.3.4 四探针测试仪 | 第69页 |
4.2.3.5 扫描电子显微镜 | 第69页 |
4.2.3.6 原子力显微镜 | 第69页 |
4.3 结果与讨论 | 第69-78页 |
4.3.1 红外吸收光谱 | 第69-70页 |
4.3.2 紫外-可见光谱 | 第70页 |
4.3.3 荧光光谱 | 第70-71页 |
4.3.4 X射线衍射(XRD) | 第71-72页 |
4.3.5 拉曼谱图 | 第72-73页 |
4.3.6 分散性分析 | 第73-75页 |
4.3.7 盐效应分析 | 第75页 |
4.3.8 电导率分析 | 第75-76页 |
4.3.9 透光率测试 | 第76-77页 |
4.3.10 形貌分析 | 第77页 |
4.3.11 原子力显微镜 | 第77-78页 |
4.4 小结 | 第78-79页 |
第五章 总结与展望 | 第79-81页 |
5.1 总结 | 第79-80页 |
5.2 展望 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-88页 |
致谢 | 第88-89页 |
附录 | 第89页 |