| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-26页 |
| ·半导体光催化技术背景 | 第12页 |
| ·光催化理论 | 第12-13页 |
| ·光催化性能的影响因素 | 第13-15页 |
| ·晶型的影响 | 第13-14页 |
| ·晶体尺寸的影响 | 第14页 |
| ·其他影响因素 | 第14-15页 |
| ·提高光催化性能方法 | 第15-19页 |
| ·非金属掺杂 | 第15-16页 |
| ·过渡金属掺杂 | 第16-17页 |
| ·贵金属沉积 | 第17页 |
| ·复合半导体 | 第17-18页 |
| ·其他方法 | 第18-19页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第19-22页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第19页 |
| ·化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition) | 第19-20页 |
| ·液相沉积法 | 第20页 |
| ·水热法 | 第20-21页 |
| ·物理气相沉积 | 第21页 |
| ·电子束蒸发法 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化法 | 第22页 |
| ·半导体光催化的应用 | 第22-23页 |
| ·杀菌消毒 | 第22页 |
| ·废水处理 | 第22-23页 |
| ·催化制氢 | 第23页 |
| ·自清洁涂层 | 第23页 |
| ·研究的思路和目标 | 第23-26页 |
| 第二章 实验与测试 | 第26-34页 |
| ·射频磁控溅射仪 | 第26-27页 |
| ·设备介绍 | 第26-27页 |
| ·靶材制备 | 第27页 |
| ·衬底预处理 | 第27页 |
| ·Sol-Gel旋涂法 | 第27-29页 |
| ·旋涂机 | 第27-28页 |
| ·Sol-Gel的制备 | 第28-29页 |
| ·其他实验试剂和设备 | 第29页 |
| ·分析和测试方法 | 第29-34页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| ·紫外-可见透射光谱(UV-vis) | 第30页 |
| ·场发射扫描电镜(FESEM) | 第30-31页 |
| ·薄膜厚度测试(Surface Profiler) | 第31页 |
| ·光催化性能测试 | 第31-34页 |
| 第三章 掺杂TiO_2薄膜的制备及其光催化性能研究 | 第34-58页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·掺锌离子TiO_2薄膜的制备及其光催化性能研究 | 第34-46页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·磁控溅射法制备Zn~(2+):TiO_2薄膜及其光催化系能研究 | 第34-38页 |
| ·溶胶-凝胶旋涂法制备Zn~(2+):TiO_2薄膜及其光催化性能研究 | 第38-42页 |
| ·两种制备方法比较 | 第42-46页 |
| ·小结 | 第46页 |
| ·掺铁离子TiO_2薄膜的制备及其光催化性能的研究 | 第46-56页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·样品的制备及其光催化性能研究 | 第46-52页 |
| ·掺杂不同离子TiO_2薄膜的性能比较 | 第52-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| ·结论 | 第56-58页 |
| 第四章 TiO_2双层复合薄膜的制备及其光催化性能的研究 | 第58-68页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·TiO_2-ZnO双层复合薄膜的制备及其光催化性能研究 | 第58-61页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·薄膜样品的制备及其光催化性能的研究 | 第58-61页 |
| ·TiO_2-Fe_2O_3双层复合薄膜的制备及其光催化性能研究 | 第61-64页 |
| ·引言 | 第61-62页 |
| ·薄膜样品的制备及其光催化性能研究 | 第62-64页 |
| ·两种复合双层薄膜的比较 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第66-68页 |
| 第五章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 附录 硕士生学习期间完成的论文 | 第78页 |
