注入水平对少子复合行为影响的研究
致谢 | 第1-5页 |
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第一章 引言 | 第10-12页 |
第二章 文献综述 | 第12-25页 |
·研究背景 | 第12-13页 |
·SPV测试法的发展概况 | 第13-17页 |
·国内外研究现状 | 第13-15页 |
·发展趋势 | 第15-17页 |
·常数SPV法 | 第16页 |
·常数光通量线性SPV法 | 第16-17页 |
·测量扩散到硅中铁的差分SPV法 | 第17页 |
·SPV测试系统 | 第17-20页 |
·传统测试系统 | 第17-18页 |
·传统测试系统的缺陷 | 第18-19页 |
·激光光源SPV测试系统 | 第19-20页 |
·激光光源SPV测试系统的优越性 | 第20页 |
·SPV测试法的应用 | 第20-24页 |
·测定半导体的导电类型 | 第20-21页 |
·测量带隙宽度Eg | 第21页 |
·缺陷态描述 | 第21-22页 |
·多层结构描述 | 第22-23页 |
·测量少子寿命 | 第23-24页 |
·选题角度的确定 | 第24-25页 |
第三章 实验仪器和操作步骤 | 第25-31页 |
·实验仪器 | 第25-28页 |
·少子寿命扫描仪装置 | 第25页 |
·快速热处理炉 | 第25-27页 |
·四探针电阻仪 | 第27页 |
·X射线荧光光谱仪 | 第27-28页 |
·样品规格 | 第28页 |
·样品清洗 | 第28-29页 |
·表面钝化 | 第29页 |
·实验流程 | 第29-31页 |
·测量寿命以及表面复合率 | 第30页 |
·测量样品Fe浓度 | 第30-31页 |
第四章 注入水平对少子体寿命的影响 | 第31-48页 |
·引言 | 第31-34页 |
·少子寿命的基本概念 | 第31-32页 |
·少子的产生 | 第32页 |
·少子的复合 | 第32-34页 |
·计算部分 | 第34-36页 |
·计算方法 | 第34-36页 |
·参数设置 | 第36页 |
·实验测试及参数设置 | 第36-38页 |
·结果和讨论 | 第38-48页 |
第五章 注入水平对表面复合率的影响 | 第48-62页 |
·引言 | 第48-49页 |
·计算部分 | 第49-50页 |
·计算方法 | 第49页 |
·参数设置 | 第49页 |
·计算结果和讨论 | 第49-50页 |
·实验部分 | 第50-58页 |
·实验测试参数 | 第50-54页 |
·实验测试结果 | 第54-58页 |
·计算和实验对比结果讨论 | 第58-62页 |
第六章 注入水平对Fe浓度测试的影响 | 第62-72页 |
·引言 | 第62-64页 |
·计算部分 | 第64-66页 |
·计算方法 | 第64-65页 |
·计算参数 | 第65-66页 |
·实验测试及参数设置 | 第66-67页 |
·结果与讨论 | 第67-72页 |
第七章 结论与展望 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-81页 |
研究生期间发表的学术论文 | 第81页 |