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注入水平对少子复合行为影响的研究

致谢第1-5页
摘要第5-6页
ABSTRACT第6-10页
第一章 引言第10-12页
第二章 文献综述第12-25页
   ·研究背景第12-13页
   ·SPV测试法的发展概况第13-17页
     ·国内外研究现状第13-15页
     ·发展趋势第15-17页
       ·常数SPV法第16页
       ·常数光通量线性SPV法第16-17页
       ·测量扩散到硅中铁的差分SPV法第17页
   ·SPV测试系统第17-20页
     ·传统测试系统第17-18页
     ·传统测试系统的缺陷第18-19页
     ·激光光源SPV测试系统第19-20页
     ·激光光源SPV测试系统的优越性第20页
   ·SPV测试法的应用第20-24页
     ·测定半导体的导电类型第20-21页
     ·测量带隙宽度Eg第21页
     ·缺陷态描述第21-22页
     ·多层结构描述第22-23页
     ·测量少子寿命第23-24页
   ·选题角度的确定第24-25页
第三章 实验仪器和操作步骤第25-31页
   ·实验仪器第25-28页
     ·少子寿命扫描仪装置第25页
     ·快速热处理炉第25-27页
     ·四探针电阻仪第27页
     ·X射线荧光光谱仪第27-28页
   ·样品规格第28页
   ·样品清洗第28-29页
   ·表面钝化第29页
   ·实验流程第29-31页
     ·测量寿命以及表面复合率第30页
     ·测量样品Fe浓度第30-31页
第四章 注入水平对少子体寿命的影响第31-48页
   ·引言第31-34页
     ·少子寿命的基本概念第31-32页
     ·少子的产生第32页
     ·少子的复合第32-34页
   ·计算部分第34-36页
     ·计算方法第34-36页
     ·参数设置第36页
   ·实验测试及参数设置第36-38页
   ·结果和讨论第38-48页
第五章 注入水平对表面复合率的影响第48-62页
   ·引言第48-49页
   ·计算部分第49-50页
     ·计算方法第49页
     ·参数设置第49页
     ·计算结果和讨论第49-50页
   ·实验部分第50-58页
     ·实验测试参数第50-54页
     ·实验测试结果第54-58页
   ·计算和实验对比结果讨论第58-62页
第六章 注入水平对Fe浓度测试的影响第62-72页
   ·引言第62-64页
   ·计算部分第64-66页
     ·计算方法第64-65页
     ·计算参数第65-66页
   ·实验测试及参数设置第66-67页
   ·结果与讨论第67-72页
第七章 结论与展望第72-74页
参考文献第74-81页
研究生期间发表的学术论文第81页

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