极紫外与X射线增反膜表面碳沉积去除技术研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-13页 |
| 1.2 同步辐射技术概述 | 第13-15页 |
| 1.3 极紫外光刻技术概述 | 第15-17页 |
| 1.4 碳沉积去除技术研究现状 | 第17-24页 |
| 1.4.1 碳沉积形成机理 | 第18-20页 |
| 1.4.2 碳沉积抑制技术研究现状 | 第20页 |
| 1.4.3 碳沉积去除技术研究现状 | 第20-24页 |
| 1.5 研究目的和意义 | 第24-26页 |
| 1.6 论文研究内容和技术路线 | 第26-28页 |
| 第2章 碳沉积去除技术对增反特性影响研究 | 第28-52页 |
| 2.1 掠入射光学原理 | 第28-31页 |
| 2.2 增反多层膜 | 第31-35页 |
| 2.2.1 X射线波段材料属性 | 第32-33页 |
| 2.2.2 增反多层膜设计方法 | 第33-34页 |
| 2.2.3 影响反射特性的因素 | 第34-35页 |
| 2.3 碳沉积去除技术工艺分析 | 第35-40页 |
| 2.3.1 紫外－臭氧去除原理 | 第35-36页 |
| 2.3.2 氩等离子体去除原理 | 第36-37页 |
| 2.3.3 活化氧去除原理 | 第37-38页 |
| 2.3.4 氢或氧等离子体去除原理 | 第38页 |
| 2.3.5 原子氢去除原理 | 第38-40页 |
| 2.4 时域有限差分方法 | 第40-42页 |
| 2.5 碳去除技术对增反特性影响分析 | 第42-49页 |
| 2.5.1 碳沉积分析及结果讨论 | 第44-45页 |
| 2.5.2 氧化分析及结果讨论 | 第45-46页 |
| 2.5.3 刻蚀分析及结果讨论 | 第46-48页 |
| 2.5.4 表面粗糙度分析及结果讨论 | 第48-49页 |
| 2.6 小结 | 第49-52页 |
| 第3章 射频氢等离子体激化原理研究 | 第52-62页 |
| 3.1 射频等离子体理论 | 第52-57页 |
| 3.1.1 微观描述 | 第53-54页 |
| 3.1.2 氢等离子体的激化 | 第54-55页 |
| 3.1.3 宏观描述 | 第55-57页 |
| 3.2 射频低气压等离子体工艺 | 第57-61页 |
| 3.2.1 容性耦合等离子体 | 第58-59页 |
| 3.2.2 感性耦合等离子体 | 第59-61页 |
| 3.3 小结 | 第61-62页 |
| 第4章 氩氢等离子体去除碳沉积增强机制 | 第62-74页 |
| 4.1 物理溅射 | 第62-63页 |
| 4.2 化学刻蚀 | 第63-64页 |
| 4.3 氩氢等离子体去除沉积碳增强机制 | 第64-72页 |
| 4.3.1 氩氢混合与纯气等离子体去除的比较 | 第64-67页 |
| 4.3.2 沉积碳去除增强机制分析 | 第67-72页 |
| 4.3.2.1 物理溅射分析 | 第67-69页 |
| 4.3.2.2 化学刻蚀分析 | 第69-72页 |
| 4.4 小结 | 第72-74页 |
| 第5章 氩氢等离子体去除碳沉积工艺研究 | 第74-96页 |
| 5.1 碳沉积去除实验平台 | 第74-83页 |
| 5.1.1 机械系统 | 第76-77页 |
| 5.1.2 气体供应系统 | 第77-78页 |
| 5.1.3 真空系统 | 第78-80页 |
| 5.1.4 实时检测系统 | 第80-83页 |
| 5.1.5 循环冷却水系统 | 第83页 |
| 5.2 氩氢等离子体去除实验原理 | 第83-93页 |
| 5.2.1 膜厚变化速率检测原理 | 第86-89页 |
| 5.2.2 实验样品的制备方法 | 第89-93页 |
| 5.3 氩氢等离子体去除工艺优化 | 第93-95页 |
| 5.4 小结 | 第95-96页 |
| 第6章 氩氢等离子体去除技术在多层膜上的验证 | 第96-112页 |
| 6.1 多层膜实验样片制备工艺 | 第96-98页 |
| 6.2 多层膜光学特性表征技术 | 第98-102页 |
| 6.2.1 多层膜反射率的测量 | 第98-101页 |
| 6.2.2 原子力显微镜 | 第101-102页 |
| 6.3 去除技术对光学特性影响表征 | 第102-109页 |
| 6.3.1 样品制备 | 第103-105页 |
| 6.3.2 反射率测试结果及讨论 | 第105-107页 |
| 6.3.3 表面粗糙度测试结果及讨论 | 第107-109页 |
| 6.4 小结 | 第109-112页 |
| 第7章 总结与展望 | 第112-116页 |
| 7.1 论文主要工作总结 | 第112-113页 |
| 7.2 创新点 | 第113页 |
| 7.3 研究展望 | 第113-116页 |
| 参考文献 | 第116-124页 |
| 致谢 | 第124-126页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第126页 |
