晶体硅电学性能评价
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-23页 |
·太阳电池概述 | 第9-10页 |
·太阳电池发展历史和现状 | 第9-10页 |
·光伏产业发展对晶体硅性能参数的要求 | 第10页 |
·晶体硅性能研究进展 | 第10-12页 |
·单晶硅性能研究进展 | 第10-11页 |
·多晶硅性能研究进展 | 第11-12页 |
·直拉单晶硅中的杂质和位错 | 第12-17页 |
·直拉单晶硅中的氧、碳 | 第13-14页 |
·直拉单晶硅中的金属杂质 | 第14-17页 |
·直拉单晶硅中的位错 | 第17页 |
·冶金多晶硅中的杂质和缺陷 | 第17-20页 |
·冶金多晶硅中的氧 | 第18页 |
·冶金多晶硅中的金属杂质 | 第18-19页 |
·冶金多晶硅中的晶界和位错 | 第19-20页 |
·晶体硅的热处理研究现状 | 第20-21页 |
·本文研究的主要目的及内容 | 第21-23页 |
2 实验方案 | 第23-28页 |
·实验路线 | 第23页 |
·实验样品 | 第23-24页 |
·实验设备及型号 | 第24-28页 |
·生长及热处理设备 | 第24-25页 |
·测试设备 | 第25-28页 |
3 单晶硅评价 | 第28-37页 |
·单晶硅电学性能评价 | 第28-31页 |
·少子寿命 | 第28-31页 |
·电阻率 | 第31页 |
·单晶硅杂质分布评价 | 第31-34页 |
·单晶硅缺陷评价 | 第34-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
4 多晶硅评价 | 第37-47页 |
·多晶硅电学性能评价 | 第37-39页 |
·少子寿命 | 第37-38页 |
·电阻率 | 第38-39页 |
·多晶硅杂质分布评价 | 第39-43页 |
·多晶硅晶界和缺陷评价 | 第43-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
5 晶体硅的热处理实验 | 第47-56页 |
·低温热处理对多晶硅电性能的影响 | 第47-49页 |
·中温热处理对单晶硅和多晶硅电性能的影响 | 第49-51页 |
·三步热处理对单晶硅和多晶硅电性能的影响 | 第51-54页 |
·本章小结 | 第54-56页 |
结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |