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晶体硅电学性能评价

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
1 绪论第9-23页
   ·太阳电池概述第9-10页
     ·太阳电池发展历史和现状第9-10页
     ·光伏产业发展对晶体硅性能参数的要求第10页
   ·晶体硅性能研究进展第10-12页
     ·单晶硅性能研究进展第10-11页
     ·多晶硅性能研究进展第11-12页
   ·直拉单晶硅中的杂质和位错第12-17页
     ·直拉单晶硅中的氧、碳第13-14页
     ·直拉单晶硅中的金属杂质第14-17页
     ·直拉单晶硅中的位错第17页
   ·冶金多晶硅中的杂质和缺陷第17-20页
     ·冶金多晶硅中的氧第18页
     ·冶金多晶硅中的金属杂质第18-19页
     ·冶金多晶硅中的晶界和位错第19-20页
   ·晶体硅的热处理研究现状第20-21页
   ·本文研究的主要目的及内容第21-23页
2 实验方案第23-28页
   ·实验路线第23页
   ·实验样品第23-24页
   ·实验设备及型号第24-28页
     ·生长及热处理设备第24-25页
     ·测试设备第25-28页
3 单晶硅评价第28-37页
   ·单晶硅电学性能评价第28-31页
     ·少子寿命第28-31页
     ·电阻率第31页
   ·单晶硅杂质分布评价第31-34页
   ·单晶硅缺陷评价第34-36页
   ·本章小结第36-37页
4 多晶硅评价第37-47页
   ·多晶硅电学性能评价第37-39页
     ·少子寿命第37-38页
     ·电阻率第38-39页
   ·多晶硅杂质分布评价第39-43页
   ·多晶硅晶界和缺陷评价第43-46页
   ·本章小结第46-47页
5 晶体硅的热处理实验第47-56页
   ·低温热处理对多晶硅电性能的影响第47-49页
   ·中温热处理对单晶硅和多晶硅电性能的影响第49-51页
   ·三步热处理对单晶硅和多晶硅电性能的影响第51-54页
   ·本章小结第54-56页
结论第56-57页
参考文献第57-61页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第61-62页
致谢第62-63页

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