| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-32页 |
| 1.1 课题研究目的及意义 | 第14-15页 |
| 1.2 硬盘组成及发展现状 | 第15-19页 |
| 1.2.1 硬盘组成 | 第15-16页 |
| 1.2.2 磁头组成及发展现状 | 第16-17页 |
| 1.2.3 磁盘组成及发展现状 | 第17-19页 |
| 1.3 热辅助磁存储技术研究现状 | 第19-22页 |
| 1.4 非晶碳保护膜研究现状 | 第22-30页 |
| 1.4.1 非晶碳结构与特性 | 第22-23页 |
| 1.4.2 非晶碳制备与仿真建模方法现状 | 第23-27页 |
| 1.4.3 非晶碳薄膜石墨化与氧化行为研究现状 | 第27-30页 |
| 1.5 本文研究的主要内容 | 第30-32页 |
| 第2章 非晶碳薄膜的分子动力学模型与结构分析 | 第32-63页 |
| 2.1 引言 | 第32页 |
| 2.2 非晶碳薄膜建模与分析方法 | 第32-44页 |
| 2.2.1 分子动力学概述 | 第32-41页 |
| 2.2.2 无掺杂非晶碳薄膜建模方法 | 第41页 |
| 2.2.3 硅掺杂非晶碳薄膜建模方法 | 第41-42页 |
| 2.2.4 薄膜结构分析方法 | 第42-44页 |
| 2.3 无掺杂非晶碳薄膜结构分析 | 第44-56页 |
| 2.3.1 温度与系统状态分析 | 第44-45页 |
| 2.3.2 配位数分析 | 第45-49页 |
| 2.3.3 径向分布函数分析 | 第49-53页 |
| 2.3.4 键角分布分析 | 第53-56页 |
| 2.3.5 淬火时间与势函数对薄膜结构的影响 | 第56页 |
| 2.4 硅掺杂非晶碳薄膜结构分析 | 第56-61页 |
| 2.4.1 温度与系统状态分析 | 第56-57页 |
| 2.4.2 配位数分析 | 第57-60页 |
| 2.4.3 径向分布函数分析 | 第60-61页 |
| 2.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 第3章 无掺杂非晶碳保护膜石墨化与氧化行为仿真研究 | 第63-84页 |
| 3.1 引言 | 第63页 |
| 3.2 单脉冲激光照射时无掺杂非晶碳薄膜温度演变过程 | 第63-67页 |
| 3.2.1 分子动力学模型与仿真方法 | 第63-65页 |
| 3.2.2 势函数选择 | 第65页 |
| 3.2.3 温度随时间的演变过程 | 第65-67页 |
| 3.3 无掺杂非晶碳薄膜石墨化行为研究 | 第67-77页 |
| 3.3.1 分子动力学模型与仿真方法 | 第67-68页 |
| 3.3.2 第一次脉冲激光照射时薄膜结构演变规律 | 第68-76页 |
| 3.3.3 密度与照射次数对无掺杂非晶碳石墨化状态的影响 | 第76-77页 |
| 3.4 无掺杂非晶碳薄膜氧化行为研究 | 第77-83页 |
| 3.4.1 分子动力学模型与仿真方法 | 第77-78页 |
| 3.4.2 激光加热速率对无掺杂非晶碳氧化状态的影响 | 第78-80页 |
| 3.4.3 激光照射次数对无掺杂非晶碳氧化状态的影响 | 第80-81页 |
| 3.4.4 无掺杂非晶碳薄膜氧化机理 | 第81-83页 |
| 3.5 本章小结 | 第83-84页 |
| 第4章 无掺杂非晶碳保护膜石墨化与氧化行为实验研究 | 第84-102页 |
| 4.1 引言 | 第84页 |
| 4.2 薄膜制备、表征及分析 | 第84-93页 |
| 4.2.1 薄膜制备方法 | 第84-88页 |
| 4.2.2 薄膜表征方法 | 第88-90页 |
| 4.2.3 薄膜磁性、成分与结构分析 | 第90-93页 |
| 4.3 HAMR模拟实验系统原理及方法 | 第93-95页 |
| 4.4 激光功率与照射时间对薄膜石墨化与氧化状态的影响 | 第95-101页 |
| 4.4.1 薄膜石墨化及氧化过程 | 第96-98页 |
| 4.4.2 薄膜石墨化后拉曼光谱分析 | 第98-99页 |
| 4.4.3 薄膜氧化后XPS能谱分析 | 第99-101页 |
| 4.5 本章小结 | 第101-102页 |
| 第5章 硅掺杂非晶碳保护膜石墨化与氧化行为仿真研究 | 第102-123页 |
| 5.1 引言 | 第102页 |
| 5.2 分子动力学模型与仿真方法 | 第102-104页 |
| 5.2.1 分子动力学模型 | 第102-103页 |
| 5.2.2 仿真方法 | 第103-104页 |
| 5.3 薄膜弛豫过程分析 | 第104-105页 |
| 5.4 第一次脉冲激光照射过程中薄膜结构与氧化状态演变规律 | 第105-113页 |
| 5.5 激光照射次数对薄膜结构与氧化状态的影响 | 第113-116页 |
| 5.6 失效过程中薄膜结构与氧化状态演变规律 | 第116-119页 |
| 5.7 硅掺杂非晶碳薄膜氧化机理 | 第119-121页 |
| 5.8 本章小结 | 第121-123页 |
| 结论 | 第123-125页 |
| 参考文献 | 第125-138页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第138-142页 |
| 致谢 | 第142-143页 |
| 个人简历 | 第143页 |
