摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 概论 | 第15-34页 |
1.1 引言 | 第15页 |
1.2 铬的物化性质及其用途 | 第15-16页 |
1.3 六价铬的毒性 | 第16-17页 |
1.4 六价铬的去除方法 | 第17-21页 |
1.4.1 化学沉淀法 | 第17页 |
1.4.2 离子交换法 | 第17-18页 |
1.4.3 膜分离法 | 第18页 |
1.4.4 光催化法 | 第18-19页 |
1.4.5 微生物法 | 第19页 |
1.4.6 吸附法 | 第19-20页 |
1.4.7 小结 | 第20-21页 |
1.5 六价铬离子的检测方法 | 第21-23页 |
1.5.1 分光光度法 | 第21页 |
1.5.2 原子吸收光谱法(AAS) | 第21-22页 |
1.5.3 电感耦合等离子体发射光谱分析法(ICP-AES) | 第22页 |
1.5.4 电化学分析法 | 第22-23页 |
1.5.5 荧光光谱法 | 第23页 |
1.6 氧化石墨烯 | 第23-24页 |
1.7 介孔氧化硅 | 第24-25页 |
1.8 锰掺杂硫化锌(ZNS:MN)量子点 | 第25-26页 |
1.9 离子印迹技术 | 第26-27页 |
1.10 本论文的研究意义 | 第27页 |
1.11 本论文的研究内容 | 第27-29页 |
参考文献 | 第29-34页 |
第二章 实验材料与方法 | 第34-40页 |
2.1 实验仪器 | 第34-35页 |
2.2 实验材料 | 第35-36页 |
2.3 材料表征方法及六价铬检测方法 | 第36-40页 |
2.3.1 红外光谱(FT-IR)分析 | 第36页 |
2.3.2 扫描电镜(SEM) | 第36-37页 |
2.3.3 透射电镜(TEM) | 第37页 |
2.3.4 热重分析(TGA) | 第37-38页 |
2.3.5 孔结构分析 | 第38页 |
2.3.6 火焰原子吸收光谱法测定Cr(Ⅵ) | 第38-39页 |
2.3.7 荧光检测 | 第39-40页 |
第三章 六价铬离子印迹材料的制备、表征及其吸附性能研究 | 第40-68页 |
3.1 引言 | 第40-41页 |
3.2 实验部分 | 第41-43页 |
3.2.1 GO的制备 | 第41页 |
3.2.2 合成氧化石墨烯-介孔二氧化硅(GO-MS)纳米片 | 第41-42页 |
3.2.3 制备六价铬的印迹吸附材料(Cr(Ⅵ)-IIP) | 第42-43页 |
3.3 结果与讨论 | 第43-49页 |
3.3.1 AAPTS用量对吸附的影响 | 第43-44页 |
3.3.2 材料的表征 | 第44-49页 |
3.4 CR(Ⅵ)-IIP对六价铬的吸附性能 | 第49-62页 |
3.4.1 实验方法 | 第49-50页 |
3.4.2 溶液pH对吸附性能的影响 | 第50-51页 |
3.4.3 吸附动力学 | 第51-54页 |
3.4.4 吸附等温线 | 第54-57页 |
3.4.5 吸附热力学 | 第57-58页 |
3.4.6 选择性研究 | 第58-60页 |
3.4.7 吸附剂的再生 | 第60-61页 |
3.4.8 与其他吸附剂的比较 | 第61-62页 |
3.5 本章小结 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-68页 |
第四章 六价铬离子印迹荧光传感器的合成、表征及在水样测定的应用 | 第68-87页 |
4.1 引言 | 第68-69页 |
4.2 实验部分 | 第69-70页 |
4.2.1 材料的制备 | 第69-70页 |
4.3 结果与讨论 | 第70-83页 |
4.3.1 材料制备条件的优化 | 第70-73页 |
4.3.2 QDs-IIP的光学稳定性研究 | 第73-74页 |
4.3.3 材料表征 | 第74-78页 |
4.3.4 QDs-IIP检测Cr(Ⅵ) | 第78-79页 |
4.3.5 样品分析 | 第79-80页 |
4.3.6 选择性研究 | 第80-82页 |
4.3.7 传感器的重复使用 | 第82-83页 |
4.3.8 与其他Cr(Ⅵ)传感器的比较 | 第83页 |
4.4 本章小结 | 第83-85页 |
参考文献 | 第85-87页 |
第五章 论文结论与创新点 | 第87-90页 |
5.1 论文结论与创新点 | 第87-90页 |
5.1.1 Cr(Ⅵ)吸附剂 | 第87-88页 |
5.1.2 Cr(Ⅵ)荧光传感器 | 第88-90页 |
攻读硕士期间科研成果 | 第90-92页 |
致谢 | 第92页 |