| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 核电的发展 | 第13-17页 |
| 1.1.1 世界核电的发展 | 第14-15页 |
| 1.1.2 中国核电的发展 | 第15-17页 |
| 1.2 核用锆合金的发展概况 | 第17-22页 |
| 1.2.1 锆合金在核电站中的应用 | 第17-19页 |
| 1.2.2 核用锆合金的发展概况 | 第19-22页 |
| 1.2.3 我国核用锆合金的研究发展情况 | 第22页 |
| 1.3 非晶态合金的研究与发展 | 第22-23页 |
| 1.4 非晶态合金薄膜的研究与制备方法 | 第23-27页 |
| 1.4.1 物理气相沉积法 | 第23-25页 |
| 1.4.2 化学气相沉积法 | 第25-27页 |
| 2 Zr-Si非晶薄膜的成分设计与制备 | 第27-44页 |
| 2.1 非晶合金的成分设计准则 | 第27-29页 |
| 2.1.1 共晶点法则 | 第27-28页 |
| 2.1.2 混乱原则 | 第28-29页 |
| 2.1.3 Inoue三原则 | 第29页 |
| 2.2 Zr-Si非晶合金的成分设计 | 第29-30页 |
| 2.3 远源等离子体溅射系统介绍 | 第30-39页 |
| 2.3.1 远源等离子体溅射系统的技术优势 | 第35-39页 |
| 2.4 薄膜的制备 | 第39-41页 |
| 2.4.1 靶材的选择 | 第39-40页 |
| 2.4.2 薄膜制备的准备工作 | 第40页 |
| 2.4.3 薄膜的制备 | 第40-41页 |
| 2.5 非晶薄膜的测试表征方法 | 第41-44页 |
| 2.5.1 高温高压反应釜 | 第41页 |
| 2.5.2 X射线衍射仪 | 第41-42页 |
| 2.5.3 表面轮廓仪 | 第42页 |
| 2.5.4 扫描电子显微技术 | 第42页 |
| 2.5.5 能谱仪（EDS） | 第42-43页 |
| 2.5.6 纳米压痕仪 | 第43-44页 |
| 3 Zr-Si非晶薄膜的组织结构 | 第44-60页 |
| 3.1 利用玻璃衬底初步选择Zr-Si非晶合金成分 | 第44-49页 |
| 3.1.1 薄膜成分控制方法 | 第44-46页 |
| 3.1.2 Zr-Si非晶合金成分的确定 | 第46-49页 |
| 3.2 薄膜对衬底的选择性 | 第49-51页 |
| 3.3 在Zr基体上制备非晶合金薄膜 | 第51页 |
| 3.4 试验结果与分析 | 第51-58页 |
| 3.4.1 Zr-Si薄膜沉积速率的测定 | 第52页 |
| 3.4.2 Zr-Si薄膜的纳米压痕分析 | 第52-54页 |
| 3.4.3 Zr-Si薄膜的纳米划痕分析 | 第54-55页 |
| 3.4.4 扫描电镜（SEM）分析 | 第55-56页 |
| 3.4.5 能谱（EDS）分析 | 第56-58页 |
| 3.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 4 Zr-Si非晶薄膜的抗氧化性能研究 | 第60-75页 |
| 4.1 实验方案 | 第60-61页 |
| 4.1.1 实验仪器 | 第60-61页 |
| 4.1.2 实验参数确定 | 第61页 |
| 4.2 实验选材与制备 | 第61-62页 |
| 4.3 实验过程 | 第62-63页 |
| 4.4 实验结果与讨论 | 第63-74页 |
| 4.4.1 实验分析手段 | 第63页 |
| 4.4.2 腐蚀样品截面分析 | 第63-70页 |
| 4.4.3 样品表面氧化膜XRD表征 | 第70-74页 |
| 4.5 本章小结 | 第74-75页 |
| 5 结论与展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文及研究成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |